[發(fā)明專利]蒸鍍裝置、蒸鍍方法以及有機EL顯示裝置的制造方法

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• 申請日: 2017-08-21
• 公開（公告）號: CN111032907A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設計）人: 岸本克彥;崎尾進
• 申請（專利權）人: 堺顯示器制品株式會社
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;H01L51/50;H05B33/10;H01L27/32
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權代理有限公司 44334
• 代理人: 王娟

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，具有：

掩模保持件，其對具有磁性體的蒸鍍掩模進行保持；

基板保持件，其對被蒸鍍基板進行保持，所述被蒸鍍基板要以與由所述掩模保持件保持的所述蒸鍍掩模接近的方式配置；

蒸鍍源，其以與所述蒸鍍掩模分離的方式設置在所述蒸鍍掩模的與所述被蒸鍍基板相反的面，并使蒸鍍材料氣化或升華；以及

磁性卡盤，其設置于被所述基板保持件保持的被蒸鍍基板的與所述蒸鍍掩模相反的面，并利用磁力吸引所述蒸鍍掩模，

所述磁性卡盤具有永久磁鐵和電磁鐵。

2.根據(jù)權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述永久磁鐵與所述電磁鐵沿與所述永久磁鐵的軸向垂直的方向并置，且所述永久磁鐵以及所述電磁鐵的與面對所述蒸鍍掩模的面相反的面通過磁性板來連接。

3.根據(jù)權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述磁性板由軟性磁性體形成。

4.根據(jù)權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述電磁鐵被設置為，與所述永久磁鐵的軸向同軸地產(chǎn)生磁場。

5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述電磁鐵具有產(chǎn)生與所述永久磁鐵的磁場的方向反向的磁場的控制機構。

6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

分別在支承所述掩模保持件以及基板保持件的支承基板與所述掩模保持件之間以及在所述支承基板與整個基板保持件之間夾裝有隔熱構件。

7.根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

還具有：內部包含所述掩模保持件、所述基板保持件、所述蒸鍍源以及所述磁性卡盤的真空腔室和熱管，所述熱管的吸熱部與所述磁性卡盤接觸，所述熱管的散熱部被導出至所述真空腔室的外部。

8.根據(jù)權利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述熱管的所述吸熱部的一部分被埋入于所述磁性卡盤的一部分。

9.根據(jù)權利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，

所述熱管的所述吸熱部設置于所述磁性卡盤的與所述被蒸鍍基板對置的面。

10.一種蒸鍍方法，其特征在于，包含如下工序：

使具有磁性體的蒸鍍掩模、被蒸鍍基板、吸引所述蒸鍍掩模的磁性卡盤重合，利用所述磁性卡盤對所述蒸鍍掩模的吸引，使所述被蒸鍍基板與所述蒸鍍掩模接近的工序；以及

通過來自與所述蒸鍍掩模分離地配置的蒸鍍源的蒸鍍材料的飛散，在所述被蒸鍍基板上沉積所述蒸鍍材料的工序，

其中，所述磁性卡盤具有永久磁鐵和電磁鐵，在進行所述被蒸鍍基板和所述蒸鍍掩模的對位時，通過所述電磁鐵施加要減弱所述永久磁鐵的磁場的、與所述永久磁鐵的磁場的方向反向的磁場并進行所述對位，在對位后使所述電磁鐵的磁場斷開，由此利用所述永久磁鐵吸引所述蒸鍍掩模。

11.根據(jù)權利要求10所述的蒸鍍方法，其特征在于，

在所述被蒸鍍基板的裝配或拆卸時，通過將所述電磁鐵設為導通來減弱所述永久磁鐵的磁場。

12.根據(jù)權利要求10或11所述的蒸鍍方法，其特征在于，

在將所述電磁鐵設為斷開時以逐漸減少的方式斷開電流。

13.一種有機EL顯示裝置的制造方法，其特征在于，包含如下工序：

至少在支承基板上形成TFT以及第一電極，

通過使用權利要求10至12中任一項所述的蒸鍍方法在所述支承基板的表面蒸鍍有機材料而形成有機層的層疊膜，

在所述層疊膜上形成第二電極。