[發(fā)明專利]光罩優(yōu)化算法及最優(yōu)目標(biāo)設(shè)計

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780091701.2
• 申請日: 2017-06-06
• 公開（公告）號: CN110741374A
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: Y·弗萊;V·萊溫斯基
• 申請（專利權(quán)）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20
• 代理公司: 11287 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 劉麗楠

本發(fā)明提供光罩上及晶片上的計量目標(biāo)設(shè)計，以及目標(biāo)設(shè)計及處理方法。目標(biāo)設(shè)計包括：粗間距周期性結(jié)構(gòu)，其具有在子元件CD及/或高度上變化的細間距子元件；正交周期性結(jié)構(gòu)，其垂直于測量方向，具有周期性循環(huán)條當(dāng)中的正交未解析間距，所述周期性循環(huán)條提供用于實現(xiàn)良好印刷目標(biāo)的校準(zhǔn)參數(shù)。正交周期性結(jié)構(gòu)可設(shè)計在光罩上且是未解析的，或以切割圖案施加在處理層上，具有對于切割層覆蓋的相對低靈敏度。所設(shè)計的目標(biāo)可用于覆蓋計量以及用于測量工藝參數(shù)，例如掃描儀像差及間距偏差。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及計量領(lǐng)域，且更具體來說，本發(fā)明涉及覆蓋目標(biāo)設(shè)計。

背景技術(shù)

周期性目標(biāo)廣泛用于覆蓋測量，但是，覆蓋目標(biāo)面臨著必須提供可檢測測量結(jié)果及對所生產(chǎn)裝置的合規(guī)性兩者的持續(xù)挑戰(zhàn)，所生產(chǎn)裝置變得越來越小且關(guān)于其生產(chǎn)工藝進行特定設(shè)計。

發(fā)明內(nèi)容

下文是提供本發(fā)明的初步理解的簡化概要。概要不一定識別關(guān)鍵元素，也不限制本發(fā)明的范圍，而僅充當(dāng)以下描述的導(dǎo)論。

本發(fā)明的一個方面提供一種計量目標(biāo)設(shè)計，其包括沿著測量方向的周期性結(jié)構(gòu)，周期性結(jié)構(gòu)具有周期性循環(huán)元件當(dāng)中的粗間距，其中每一元件沿著測量方向是周期性的，具有在子元件臨界尺寸(CD)上變化的周期性循環(huán)子元件當(dāng)中的細間距，其中粗間距是細間距的整數(shù)倍，且其中目標(biāo)設(shè)計進一步包括正交周期性結(jié)構(gòu)，正交周期性結(jié)構(gòu)垂直于測量方向，具有周期性循環(huán)條當(dāng)中的正交未解析間距，其中正交未解析間距小于指定最小設(shè)計規(guī)則間距。

本發(fā)明的這些、額外及/或其它方面及/或優(yōu)點在下文的具體實施方式中闡述；可能可從具體實施方式推斷；及/或可通過實踐本發(fā)明而學(xué)習(xí)。

附圖說明

為了更好地理解本發(fā)明的實施例且展示可如何實行本發(fā)明的實施例，現(xiàn)在將純粹通過實例參考附圖，其中遍及圖式中的相同數(shù)字指定對應(yīng)元件或區(qū)段。

在附圖中：

圖1A是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的計量目標(biāo)設(shè)計的高階示意圖。

圖1B是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的光刻過程的設(shè)定的高階示意圖及高度簡化圖。

圖2A到2C是現(xiàn)有技術(shù)目標(biāo)設(shè)計的高階示意圖。

圖3及4是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的計量目標(biāo)設(shè)計的高階示意圖。

圖5是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的使用具有不同寬度的正交條的目標(biāo)設(shè)計的印刷計量目標(biāo)的高階示意圖。

圖6A到6C是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的印刷計量目標(biāo)的高階示意圖。

圖7A及7B是根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的使用目標(biāo)的額外測量的高階示意圖。

圖8是說明根據(jù)本發(fā)明的一些實施例的方法的高階流程圖。

具體實施方式

在以下描述中，描述本發(fā)明的各種方面。為了闡釋的目的，闡述特定配置及細節(jié)以提供本發(fā)明的透徹理解。但是，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員也將了解，本發(fā)明可在沒有本文中呈現(xiàn)的具體細節(jié)的情況下實踐。此外，可能已省略或簡化熟知的特征以不模糊本發(fā)明。具體參考圖式，應(yīng)強調(diào)，所展示細項是通過實例且僅是為了說明性論述本發(fā)明的目的，且為了提供據(jù)信是本發(fā)明的原理及概念方面的最有用且容易理解的描述的原因而呈現(xiàn)。在這方面，不試圖比基本理解本發(fā)明所需般更詳細展示本發(fā)明的結(jié)構(gòu)細節(jié)，結(jié)合圖式進行的描述使所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員了解實際上可如何體現(xiàn)本發(fā)明的若干形式。

在詳細闡釋本發(fā)明的至少一個實施例之前，應(yīng)理解，本發(fā)明在其應(yīng)用上不限于以下描述中闡述或圖式中說明的組件的構(gòu)造及布置的細節(jié)。本發(fā)明可應(yīng)用在可以各種方式實踐或?qū)嵭械钠渌鼘嵤├约八沂緦嵤├慕M合。此外，應(yīng)理解，本文中采用的詞組及術(shù)語是為了描述的目的且不應(yīng)被視為限制性的。