[發明專利]光罩優化算法及最優目標設計

在審

• 申請號: 201780091701.2
• 申請日: 2017-06-06
• 公開（公告）號: CN110741374A
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: Y·弗萊;V·萊溫斯基
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20
• 代理公司: 11287 北京律盟知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 劉麗楠

1.一種計量目標設計，其包括沿著測量方向的周期性結構，所述周期性結構具有周期性循環元件當中的粗間距，

其中每一元件沿著所述測量方向是周期性的，具有在子元件臨界尺寸CD上變化的周期性循環子元件當中的細間距，其中所述粗間距是所述細間距的整數倍，且

其中所述目標設計進一步包括正交周期性結構，所述正交周期性結構垂直于所述測量方向，具有周期性循環條當中的正交未解析間距，其中所述正交未解析間距小于指定最小設計規則間距。

2.一種光刻光罩，其包括根據權利要求1所述的計量目標設計。

3.一種計量目標，其是使用根據權利要求2所述的光罩產生。

4.根據權利要求3所述的計量目標，其包括沿著所述測量方向的目標周期性結構，所述目標周期性結構具有周期性循環目標元件當中的目標粗間距，

其中每一目標元件沿著所述測量方向是周期性的，具有在目標子元件CD上變化的周期性循環目標子元件當中的目標細間距，其中所述目標粗間距是所述目標細間距的整數倍。

5.一種晶片，其包括根據權利要求3或4所述的至少一個計量目標。

6.一種根據權利要求3或4所述的至少一個計量目標的目標設計文件。

7.一種根據權利要求3或4所述的多個計量目標的計量覆蓋測量。

8.一種計量目標，其包括沿著測量方向的周期性結構，所述周期性結構具有周期性循環元件當中的粗間距，其中每一元件沿著所述測量方向是周期性的，具有CD相同的周期性循環子元件當中的細間距，且其中由垂直于所述測量方向、具有周期性循環切口的正交周期性結構切割所述子元件。

9.根據權利要求8所述的計量目標，其中所述細間距介于最小設計規則間距的一倍與兩倍之間。

10.根據權利要求8所述的計量目標，其中所述細間距是所述最小設計規則間距的兩倍。

11.一種晶片，其包括根據權利要求8到10中任一項所述的至少一個計量目標。

12.一種根據權利要求8到10中任一項所述的至少一個計量目標的目標設計文件。

13.一種方法，其包括：

將具有正交未解析間距、垂直于測量方向的正交周期性結構引入到包括沿著所述測量方向的周期性結構的計量目標設計，及

在光刻光罩上使用所述計量目標設計來產生具有僅沿著所述測量方向的周期性結構的可配置計量目標。

14.根據權利要求13所述的方法，其進一步包括配置所述計量目標設計以使所述周期性結構包括處于粗間距的周期性循環元件，其中每一元件沿著所述測量方向是周期性的，具有在子元件CD上變化的周期性循環子元件當中的細間距，其中所述粗間距是所述細間距的整數倍。

15.根據權利要求13或14所述的方法，其進一步包括配置正交周期性結構元件的寬度以優化目標可印刷性。

16.根據權利要求15所述的方法，其進一步包括從根據所述計量目標設計所產生的計量目標導出覆蓋計量測量。

17.一種方法，其包括：

在處理層上沿著測量方向產生周期性結構，所述周期性結構具有周期性循環元件當中的粗間距，其中每一元件沿著所述測量方向是周期性的，具有CD相同的周期性循環子元件當中的細間距，及

由垂直于所述測量方向、具有周期性循環切口的正交周期性結構切割所述子元件。