[發明專利]排氣裝置

在審

• 申請號: 201780089140.2
• 申請日: 2017-03-30
• 公開（公告）號: CN110462266A
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發明（設計）人: 雷強;賈社娜;王暉
• 申請（專利權）人: 盛美半導體設備(上海)有限公司
• 主分類號: F16K11/085
• 分類號: F16K11/085
• 代理公司: 31100 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 陸嘉<國際申請>=PCT/CN2017/

本發明揭示了一種用于多種氣體分離排氣的排氣裝置。排氣裝置(100)包括外管(102)、內管(103)和致動器(104)。外管(102)包括管體(1021)。管體(1021)的側壁設有多個排氣口(1022)。內管(103)容納在外管(102)的管體(1021)內。內管(103)的一端是開口的，內管(103)的另一端是封閉的。內管(103)的側壁設有一個通孔(1033)或多個通孔(1033)。致動器(104)被配置為驅動內管(103)在外管(102)的管體(1021)內旋轉以使內管(103)的通孔(1033)對上外管(102)的一個排氣口(1022)以排出一種氣體，與此同時外管(102)的其他排氣口(1022)由內管(103)的側壁封閉。

技術領域

本發明涉及一種排氣裝置，尤其涉及一種改進的排氣裝置，適用于幾種氣體分離排氣。

背景技術

眾所周知，半導體生產過程中的主要污染源是在例如刻蝕，清洗等過程中產生的酸性氣體、堿性氣體、可燃氣體等。由于酸性氣體、堿性氣體及可燃氣體有不同的處理方法，因此，需要分開排放、收集及處理酸性氣體、堿性氣體及可燃氣體。在傳統的半導體制造設備中，為了分開排放酸性氣體、堿性氣體及可燃氣體，傳統的半導體制造設備通常設有三個排氣裝置。每個排氣裝置用于排放一種氣體。具體地，每個排氣裝置具有氣體入口及氣體出口。每個排氣裝置的氣體入口連接工藝腔，每個排氣裝置的氣體出口連接廠務排氣系統。對應于酸性氣體、堿性氣體及可燃氣體，廠務排氣系統具有廠務酸性氣體排氣系統、廠務堿性氣體排氣系統及廠務可燃氣體排氣系統。根據工藝腔內廢氣(酸性氣體、堿性氣體或可燃氣體)的性質，需要選擇對應的排氣裝置及對應的廠務排氣系統。

雖然使用多個排氣裝置可以實現多種氣體的分離排放，然而還是存在著缺點。一方面，多個排氣裝置占據著大量空間，導致半導體制造設備變得臃腫。另一方面，當一個排氣裝置在使用時，其他的排氣裝置處于閑置狀態，導致了排氣裝置利用率的降低。傳統的排氣裝置占據了空間和花費，這顯然是不可取的。

發明內容

相應地，本發明的目的是提供一種用于幾種氣體分離排氣的排氣裝置。

根據本發明的一個實施例，提出的排氣裝置包括外管、內管和致動器。外管包括管體。管體的側壁設有多個排氣口。內管容納在外管的管體內。內管的一端是開口的，內管的另一端是封閉的。內管的側壁設有一個通孔。致動器被配置為驅動內管在外管的管體內旋轉以使內管的通孔對上外管的一個排氣口以排放一種氣體，與此同時外管的其他排氣口則由內管的側壁封閉。

根據本發明的另一個實施例，提出的排氣裝置包括外管、內管和致動器。外管包括管體。管體的側壁設有多個排氣口。內管容納在外管的管體內。內管的一端是開口的，內管的另一端是封閉的。內管的側壁設有多個通孔。致動器被配置為驅動內管在外管的管體內旋轉以使內管的一個通孔對上外管的一個排氣口來排放一種氣體，與此同時外管的其他排氣口由內管的側壁封閉住，內管的其他通孔由外管的管體的側壁封閉住。

綜上所述，本發明的排氣裝置通過驅動內管在外管內旋轉，從而使內管的通孔每次對上外管相應的排氣口來實現多種氣體分離排出。與傳統的排氣裝置相比，本發明的排氣裝置不僅實現了多種氣體分離排放，而且結構簡單，制造成本低且占用的空間少。

附圖說明

圖1揭示了根據本發明的一典型實施例的排氣裝置的透視圖。

圖2揭示了圖1所示排氣裝置的頂視圖。

圖3揭示了圖2中沿A-A的剖視圖。

圖4揭示了本發明排氣裝置的外管的透視圖。

圖5揭示了本發明排氣裝置的內管的透視圖。

圖6揭示了本發明排氣裝置的另一透視圖。

圖7揭示了本發明排氣裝置的檢測板的透視圖。