[發(fā)明專利]三維積層造形裝置及積層造形方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780087837.6 | 申請日： | 2017-04-11 |
| 公開（公告）號： | CN110382139A | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發(fā)明（設計）人： | 山田章夫;菅谷慎二;相馬實 | 申請（專利權(quán)）人： | 愛德萬測試株式會社 |
| 主分類號： | B22F3/105 | 分類號： | B22F3/105;B22F3/16;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀純 |
| 地址： | 日本東京千*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 造形 積層 三維構(gòu)造 三維 變形元件 光束形狀 連續(xù)曲線 截面層 照射 偏向控制單元 照射時間數(shù)據(jù) 照射位置數(shù)據(jù) 截面形狀 數(shù)據(jù)輸出 照射位置 時序 存儲部 粉末層 偏向器 熔融 存儲 凝固 輸出 | ||
本發(fā)明提供一種將包括曲線的截面層進行積層而造形三維構(gòu)造物的三維積層造形裝置。本發(fā)明提供一種三維積層造形裝置100，其具備：決定部116，接收關(guān)于三維構(gòu)造物66的截面形狀的造形數(shù)據(jù)，而決定沿著連續(xù)曲線的第1光束及第2光束的照射位置、光束形狀及照射時間的數(shù)據(jù)；存儲部118，存儲決定部116所決定的數(shù)據(jù)；及偏向控制單元150，基于照射時間數(shù)據(jù)而產(chǎn)生的時序?qū)⒄丈湮恢脭?shù)據(jù)輸出至偏向器50；及變形元件控制單元130，將光束形狀數(shù)據(jù)輸出至變形元件30。由此，三維積層造形裝置100通過一面沿著連續(xù)曲線照射第1光束及第2光束一面使粉末層熔融凝固，而將包括曲線的截面層進行積層來造形三維構(gòu)造物。
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及一種三維積層造形裝置及積層造形方法。
背景技術(shù)
有一種三維積層造形裝置，其是對包含金屬材料等的粉末層的表面的特定范圍照射電子束，使粉末層的一部分熔融凝固而形成截面層，將該截面層堆疊，由此造形三維構(gòu)造物。例如在專利文獻1、2中記載有一種三維積層造形裝置及使用其的積層造形方法。
[背景技術(shù)文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]美國專利第7,454,262號
[專利文獻2]日本專利特開2015-193866號公報
發(fā)明內(nèi)容
[發(fā)明要解決的問題]
在專利文獻1中所記載的以往的三維積層造形裝置中，將粉末層的表面劃分成小區(qū)劃而對每個小區(qū)劃照射電子束。另外，在專利文獻2中所記載的三維積層造形裝置中，在粉末層的表面直線性地掃描電子束而照射電子束。通過像這樣使粉末層的表面局部地熔融凝固，并將其熔融凝固的部分相連，而形成整個截面層。
但是，在以往的三維積層造形裝置中，難以精度良好地造形具有平滑的表面的造形物。
[解決問題的技術(shù)手段]
在本發(fā)明的第1實施方式中，提供一種三維積層造形裝置，其將粉末層經(jīng)熔融凝固而成的截面層進行積層來造形三維構(gòu)造物，且具有：電子束柱，輸出第1光束、及與所述第1光束并列地照射的第2光束；造形部，供收容被所述第1光束照射的原料粉末；及控制部，控制所述電子束柱；所述控制部具備：決定部，沿著表示對所述截面層照射的電子束的路徑的多條環(huán)狀線，設定所述第1光束及第2光束的多個照射位置，并且決定所述各照射位置處的照射時間；存儲部，存儲所述決定部所決定的照射位置及照射時間的數(shù)據(jù)；及時序產(chǎn)生部，根據(jù)所述照射時間產(chǎn)生從所述存儲部讀出所述照射位置數(shù)據(jù)并輸出至所述電子束柱的時序。
另外，在本發(fā)明的第2實施方式中，提供一種積層造形方法，其是在所述三維積層造形裝置中進行，且具有如下步驟：在所述控制部中，沿著表示對所述截面層照射的電子束的路徑的多條環(huán)狀線，設定所述第1光束及第2光束的多個照射位置，并且決定所述各照射位置處的照射時間；由所述控制部在基于所述照射時間而產(chǎn)生的時序下將照射位置的數(shù)據(jù)輸出至所述電子束柱而照射電子束；及在每次沿著所述一條環(huán)狀線的電子束的照射結(jié)束時，使電子束的照射位置返回至粉末層的表面的特定位置。
由此，提供一種形成包括曲線的三維構(gòu)造物的截面的三維積層造形裝置及積層造形方法。
此外，所述發(fā)明內(nèi)容并未列舉出本發(fā)明所需的所有特征。這些特征群的下位組合也可能成為發(fā)明。
附圖說明
圖1表示三維積層造形裝置100的構(gòu)成例。
圖2(a)表示三維積層造形裝置100應形成的三維構(gòu)造物66的例。圖2(b)表示切割面β中的三維構(gòu)造物66的截面形狀的例。
圖3表示與三維構(gòu)造物66的截面形狀對應的造形數(shù)據(jù)的例子。
圖4表示構(gòu)成造形數(shù)據(jù)的連續(xù)曲線e的例子。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于愛德萬測試株式會社，未經(jīng)愛德萬測試株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780087837.6/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
