[發明專利]光學布置、特別是光刻系統

有效

• 申請號: 201780087714.2
• 申請日: 2017-11-13
• 公開（公告）號: CN110383174B
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發明（設計）人: B.蓋爾里希;R.茲韋林;C.塞維奧爾;M.埃拉思;J.普羅希瑙;M.內夫齊;V.庫利茨基;A.洛倫茲;S.沙夫
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08;G02B5/08;G02B7/00;G02B7/182;G02B7/198;G03B27/42;G21K1/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

本發明涉及光學布置，特別是光刻系統(1)，其包括：特別是反射鏡(3)的可移動部件，移動部件(3)的至少一個致動器(4)，以及具有限制部件(3)的移動的鄰接表面(12)的至少一個鄰接件(6)。光學布置包括在鄰接件(6)上或多個鄰接件上，以在相同移動方向(+X、?X、?Y、+Y)上限制可移動部件(3)的移動的至少兩個鄰接表面，該鄰接表面特別是配備為施加于可移動部件(3)的相同側，和/或光學布置包括相對于可移動部件(3)移動鄰接件(6)的至少一個其他致動器(9)以及確定鄰接件(6)的鄰接表面(12)和可移動部件(3)之間的距離(A)的至少一個距離傳感器(13)。光學布置還可以包括反射鏡(3)形式的減少重量的可移動部件。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2017年1月17日提交的德國專利申請DE 10 2017 200 635.8的優先權，其全部公開內容通過引用并入本申請的內容。

發明背景

本發明涉及光學布置，例如涉及光刻系統，特別是EUV光刻系統，其包括：特別是反射鏡的可移動部件，移動部件的至少一個致動器，和具有限制部件的移動的止擋面的至少一個止擋件。

出于本申請的目的，光刻系統被認為意味可以用在光刻領域中的光學系統或光學布置。除了光刻設備，其用于制造半導體部件，光學系統例如可以是檢驗光刻設備中所使用的光掩模(在下文中還稱為掩模母版)的檢驗系統，以檢驗要結構化的半導體基板(在下文中還稱為晶片)，或者可以是度量系統，其用于測量光刻設備或其部分，例如測量投射系統。光學布置或光刻系統可以特別是EUV光刻系統，其設計為所使用的輻射在約5nm和約30nm之間的EUV波長范圍中的波長處。

DE 10 2012 212 503 A1公開了光刻設備，其具有第一部件和第二部件以及耦接設備，以便使第一部件和第二部件彼此耦接。光刻設備具有感測裝置，以感測其上支撐光刻設備的基底的移動，并且還具有開環控制裝置，其設計為取決于感測的基底的移動來致動耦接裝置以便限制第二部件相對于第一部件的移動。出于該目的，耦接裝置可以具有至少一個可調整的終端止擋件。可調整的終端止擋件可以與具有反射鏡形式的第二部件鄰接接觸，以便產生反射鏡相對于力框架形式的第一部件的形式匹配的固定。該固定旨在于在震動的事件中或由于地震的顫動的事件中避免損壞反射鏡。

DE 10 2011 087 389 A1描述了具有用于例如反射鏡的部件的止擋件的定位系統，其中止擋件限制了部件的移動的路徑并且可調整地設計。止擋件的可調整性旨在于使得反射鏡的移動區域盡可能擴大的同時最小化止擋件和反射鏡之間的間隙寬度?？梢蕴峁╅_環和/或閉環控制裝置，利用其以開環和/或閉環方式控制止擋件的再定位，其中特別地致動器的止擋面和部件之間的距離的最佳范圍被指定或者止擋件被再定位使得部件與止擋面的距離保持在預先定義的范圍內。最佳距離范圍可以在5微米和15微米之間。

發明目的

本發明的目的為提供一種光學布置，特別是光刻設備，其中抵消了可移動部件在顫動的事件下的損壞。

發明內容

該目的根據第一方面通過在背景部分所提及類型的光學布置來實現，其還包括：至少一個其他致動器，以相對于可移動部件移動止擋件；以及至少一個距離傳感器，以確定在止擋件的止擋面和可移動部件之間的距離。

如在背景部分引入的DE 10 2011 087 389 A1中所描述的，有利的是，在可移動部件和止擋件(更明確地說其止擋面)之間的距離保持在相對于可移動部件的預先定義的距離范圍內。在可移動部件和止擋件之間的間隙有利于防止振動從止擋件傳輸到可移動部件中，例如到反射鏡中。發明人已經認識到，如果可移動部件到止擋件的止擋面的的自由軌跡盡可能短，則可以最小化可移動部件的不受控制的加速或動能。