[發明專利]具有輸送鎖定件的光學配置，尤其是光刻系統

有效

• 申請號: 201780087378.1
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN110337613B
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發明（設計）人: R.茲韋林;S.弗里茨謝;H.瓦格納;F.阿勒斯;J.普羅希瑙;M.埃拉思;V.庫利茨基;M.內夫齊
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

本發明關于光學配置，例如光刻系統，其包含：第一部件(19)，特別是承載框；第二部件(13)，其可相對第一部件(19)移動，特別是反射鏡；以及至少一個止擋件(20)，其具有至少一個止擋面(20a、20b)用于限制第二部件(13)相對第一部件(19)的移動。在本發明一個方面中，光學配置(較佳為止擋件(20))具有用于固定第二部件(13)的固定裝置(23)，其至少包含可相對止擋件(20)的止擋面(21a、21b)移動的固定元件(24)。本發明的其他方面同樣關于具有固定裝置或具有輸送鎖定件的光學配置。

相關申請的交叉引用

本申請主張2017年1月17日申請的德國專利申請10 2017 200 636.6的優先權，其全部公開內容視為本申請公開內容的一部分并以引用的方式并入本文。

技術領域

本發明的一方面關于一裝置，例如光刻系統，特別是EUV光刻系統，其包含：第一部件(特別是承載框)、相對于第一部件可移動的第二部件(特別是反射鏡)、以及具有用以限制第二部件相對第一部件的移動的至少一個止擋面的至少一個止擋件。

背景技術

針對本申請案的目的，將光刻系統理解為可用于光刻領域的光學系統或光學配置。除了用于生產半導體部件的光刻裝置外，光學系統也可例如為用以檢查在光刻裝置中所使用的光掩模(以下也稱為掩模母版)、用以檢查待結構化的半導體基板(在下文中也稱為晶片)的檢查系統，或為用以測量光刻裝置或其部分(例如用以測量投射系統)的度量系統。光學配置或光刻系統可特別為EUV光刻系統，其設計用于波長在約5nm與約30nm之間的EUV波長范圍中的使用輻射。

在下文中經常提到可移動(第二)部件或形式為反射鏡的移動/可移動物體(特別是EUV反射鏡)。然而，原則上，可移動部件也可為任何其他物體或任何其他部件或子部件，例如光學部件，如透鏡或棱鏡、晶片臺、機床的零件、用于光學或非光學部件的其他承載框架或承載結構等。

第一部件可例如為光學配置的承載框(稱作“力框”)，其實質地吸收作用在光學配置上的所有力?？梢苿硬考ǔＯ鄬Τ休d框彈簧式安裝、或與其機械地解耦，使得理想上沒有力或振動從承載框傳輸到可移動部件。然而，第一部件也可為某些其他部件，例如載體部件，其相對光學配置的承載框彈簧式安裝或與其機械地解耦。

在EUV光刻裝置的情況下，特別是在用以將掩模的像投射到光敏感基板上的EUV鏡頭的情況下，成像質量相對于EUV反射鏡的光學表面的變形的敏感度將特別大。假設這種鏡頭的光學設計被校正到約10mλ，其中λ表示工作波長，則在約13.5nm的工作波長λ處存在約135pm的最大允許波前誤差。這表示約50pm的EUV反射鏡的表面變形已經導致顯著的波前像差。因此，在EUV光刻裝置或EUV鏡頭的操作期間，EUV反射鏡被設定為暫停狀態，使得作用于EUV反射鏡的力和力矩盡可能小。這種暫停狀態或與周圍環境機械地解耦的狀態所具有的結果為，EUV反射鏡實際上可在其端部位置之間自由地移動，這些端部位置通常由端部止擋件所限定，且可能與端部止擋件碰撞。特別是在輸送EUV光刻裝置時，還有在發生地震時，這可能導致對EUV反射鏡或其他部件的損壞。

在傳統EUV鏡頭的情況下，這個問題通過在輸送期間將其反轉來解決。在此情況下，造成重量補償及導致EUV反射鏡在EUV鏡頭或EUV光刻裝置的操作位置處的暫停狀態的力、以及反射鏡重量的力，相加在一起而形成總體力或總體加速度，其大致對應于由重力引起的加速度的兩倍(2g)。以此方式，反射鏡通常保持固定在其垂直端部位置，直到2g數量級的加速度。在更大加速度的情況下，EUV反射鏡可能離開端部位置并再次自由地位于端部位置之間，即EUV反射鏡的固定在可承受的沖擊負載方面受到限制。在未來的EUV鏡頭情況下，EUV反射鏡有可能變得太大太重，而使得EUV鏡頭的反轉不再是適當的或可能的。