[發明專利]配線修正裝置及配線修正方法

在審

• 申請號: 201780083027.3
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN110168136A
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 鈴木良和;久住庸輔
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: C23C16/48
• 分類號: C23C16/48;C23C16/16;C23C16/56;G09F9/00;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 洪秀川;馬運剛

本發明提供一種配線修正裝置，其照射由CVD用激光振蕩器振蕩產生的CVD用的激光，并在修正用基板的激光照射面使CVD用原料氣體進行光分解，從而在激光照射面形成修正用金屬配線，其特征在于，具有改性用激光振蕩器，改性用激光振蕩器使波長與CVD用的激光不同的改性用的激光產生振蕩，而使修正用金屬在熔融之后固化。

技術領域

本發明涉及配線修正裝置及配線修正方法，更詳細地說，涉及利用激光CVD(Chemical Vapor Deposition：化學氣相沉積)法在基板表面形成修正用金屬配線的技術。

背景技術

液晶顯示器、有機EL(Electro Luminescence：電致發光)顯示器等的FPD(FlatPanel Display：平板顯示器)包括形成有例如大量的薄膜晶體管(Thin Film Transistor：薄膜晶體管)、大量的細微的配線圖案等的TFT基板。在FPD的制造工序中，在TFT基板上的配線圖案存在缺陷的情況下進行修復處理。作為這樣的修復處理例如已知有利用了專利文獻1中公開的斷線修正方法的處理。在該斷線修正方法中，在產生了斷線的部位通過激光CVD法選擇性地形成導電膜來連接配線。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2006-317726號公報

發明內容

發明概要

發明要解決的課題

近年來，FPD在高精細化以及大畫面化方面進展。伴隨著高精細化，FPD的像素尺寸、配線寬度尺寸變小。伴隨著大畫面化，FPD的像素數增加。由于這樣的像素數的增加等主要原因，FPD的刷新率高頻化。當刷新率高頻化時，FPD的驅動電流增大。例如，在有機EL顯示器中，由于驅動方式為電流驅動方式，因此TFT基板的驅動電流也增加。隨著這樣的驅動電流的增加，TFT基板的配線要求低電阻化。同樣地、形成于配線的修正部位的修正用金屬配線也要求低電阻化。通過上述的激光CVD法形成的配線由于為顆粒狀金屬塊所集合的狀態，因此難以接近金屬原本的低電阻值。

本發明是鑒于上述的技術問題而提出的，其目的在于提供實現通過激光CVD法形成的修正用金屬配線的低電阻化的配線修正裝置及配線修正方法。

用于解決技術問題的技術方案

為了解決上述的技術問題而實現目的，本發明的實施方式為配線修正裝置，其結構如下：該配線修正裝置向表面暴露于CVD用原料氣體中的修正用基板照射由CVD用激光振蕩器振蕩產生的CVD用激光并在修正用基板的激光照射面使CVD用原料氣體進行光分解，使修正用金屬選擇性地堆積于激光照射面，從而形成修正用金屬配線，具有改性用激光振蕩器，該改性用激光振蕩器使波長與CVD用激光不同的、能夠將修正用金屬熔融的改性用激光產生振蕩。

作為上述實施方式，優選具有能夠向修正用基板的相同區域照射CVD用激光和改性用激光的光學系統。

作為上述實施方式，優選設定為CVD用激光和改性用激光同時被振蕩。

作為上述實施方式，也可以是，設定為在照射CVD用激光而形成修正用金屬配線之后，對修正用金屬配線照射改性用激光。

作為上述實施方式，優選CVD用激光為紫外線激光，改性用激光為被脈沖振蕩的紅外線激光。

作為上述實施方式，優選CVD用激光振蕩器和改性用激光振蕩器包含在兩波長輸出激光振蕩器，能夠同時或分別使CVD用激光和改性用激光產生振蕩。

作為上述實施方式，優選CVD用原料氣體選自W(CO)₆、Cr(CO)₆、Mo(CO)₆中。