[發(fā)明專利]量測(cè)圖像與設(shè)計(jì)之間的模擬輔助的對(duì)準(zhǔn)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780081217.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110140088B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王德勝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 胡良均

1.一種用于確定圖案化襯底的參數(shù)的方法，包括：

使用設(shè)計(jì)布局的特性和圖案化過(guò)程的特性來(lái)模擬圖像或圖像的一個(gè)或更多個(gè)特性；

確定所述圖像或所述圖像的一個(gè)或更多個(gè)特性與所述設(shè)計(jì)布局或所述設(shè)計(jì)布局的一個(gè)或更多個(gè)特性之間的偏差；

基于所述偏差使從經(jīng)圖案化的襯底獲得的量測(cè)圖像與所述設(shè)計(jì)布局對(duì)準(zhǔn)，其中所述經(jīng)圖案化的襯底包括使用所述圖案化過(guò)程由所述設(shè)計(jì)布局產(chǎn)生的圖案；和

根據(jù)與所述設(shè)計(jì)布局對(duì)準(zhǔn)的所述量測(cè)圖像確定經(jīng)圖案化的襯底的參數(shù)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括基于所述參數(shù)調(diào)整所述設(shè)計(jì)布局、包括所述設(shè)計(jì)布局的圖案形成裝置、和/或所述圖案化過(guò)程。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中模擬所述圖像或所述圖像的一個(gè)或更多個(gè)特性還包括：使用分辨率增強(qiáng)技術(shù)的一個(gè)或更多個(gè)特性或圖案形成裝置的一個(gè)或更多個(gè)特性。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述分辨率增強(qiáng)技術(shù)配置成將輔助特征置放至所述設(shè)計(jì)布局中。

5.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述圖案形成裝置的所述一個(gè)或更多個(gè)特性包括所述圖案形成裝置上的圖案的變形。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述偏差介于所述設(shè)計(jì)布局的一個(gè)或更多個(gè)映射的參考物與所述圖像的對(duì)應(yīng)的一個(gè)或更多個(gè)映射的參考物之間。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中所述一個(gè)或更多個(gè)映射的參考物包括輪廓中的邊緣。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述偏差包括邊緣置放誤差。

9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述量測(cè)圖像為掃描電子顯微圖像，和/或其中所述量測(cè)圖像為像素化的圖像。

10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)準(zhǔn)所述量測(cè)圖像與所述設(shè)計(jì)布局包括：從所述量測(cè)圖像識(shí)別輪廓。

11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中對(duì)準(zhǔn)所述量測(cè)圖像與所述設(shè)計(jì)布局包括：

基于所述偏差的特性確定多個(gè)偏差的權(quán)重；

計(jì)算表征所述偏差中的至少一些且為所述設(shè)計(jì)布局與所述量測(cè)圖像之間的映射的函數(shù)的成本函數(shù)；

基于所述成本函數(shù)調(diào)整所述映射；和

使用所述映射來(lái)對(duì)準(zhǔn)所述量測(cè)圖像和所述設(shè)計(jì)布局。

12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述偏差的特性包括所述偏差的幅值。

13.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述權(quán)重中的至少一個(gè)為零。

14.如權(quán)利要求11所述的方法，其中所述映射表示所述量測(cè)圖像與所述設(shè)計(jì)布局之間的一個(gè)或更多個(gè)相對(duì)的變形。

15.一種非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)程序存儲(chǔ)介質(zhì)，所述非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)程序存儲(chǔ)介質(zhì)包括機(jī)器可讀指令，所述機(jī)器可讀指令用于使處理器執(zhí)行如權(quán)利要求1所述的方法。