[發明專利]光學裝置和相關方法

有效

• 申請號: 201780077291.6
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN110088684B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: S·S·R·奧馬羅辛哈;A·J·布里克;A·M·斯卓克肯;恩格爾伯塔斯·安東尼納斯·弗朗西絲克斯·范德帕斯奇;B·P·范德利恩胡森
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王益

對準系統將激光束與參考平面中的期望位置和參考平面中的期望方向對準。該系統將激光衍射成不同的衍射級，使用不同的透鏡將不同的衍射級投影到檢測平面上。由于不同的衍射級在檢測平面中的投影的部位對束在參考平面中的位置和方向的變化做出不同的響應，因此投影的部位使得能夠確定如何調節束以便使束正確地對準。衍射和投影可以通過全息圖實現。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2016年12月14日提交的歐洲申請16203954.9的優先權，該歐洲申請的全部內容以引用的方式并入本文中。

技術領域

本發明涉及一種用于將光束的至少兩個圖像投影到平面上的光學裝置、對準系統和相關方法。

背景技術

光刻設備是被構造成將期望的圖案施加到襯底上的機器。例如，光刻設備可用于制造集成電路(IC)。光刻設備可以例如將圖案從圖案形成裝置(例如掩模)投影到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。

由將圖案投影到襯底上的光刻設備所用的輻射的波長決定了可以在該襯底上形成的特征的最小尺寸。使用極紫外(EUV)輻射(波長在4-20nm范圍內的電磁輻射)的光刻設備可以用于在襯底上形成比常規光刻設備(例如可以使用波長為193nm的電磁輻射)更小的特征。

光刻系統可以包括一個或更多個輻射源，用于產生適當波長的電磁輻射，用于將掩模上的圖案成像到覆蓋有光敏層的襯底上。這種輻射源可以包括使用高功率激光系統以最終產生用于成像的電磁輻射。例如，為了產生EUV范圍內的電磁輻射，可以使用高功率CO₂激光器，通過將電子從錫原子上脫離而將錫滴轉變成等離子體，它們被留下成為離子。當離子和電子重新結合時，等離子體發射EUV范圍內的電磁輻射。

為了將激光束從激光器導向至感興趣的點，光刻系統包括束傳遞系統，該束傳遞系統包括光學部件，例如分束器、透鏡或反射鏡。激光束被準確地對準是重要的，特別是如果激光束是高強度的，以防止損壞束傳遞系統或在遠處的硬件，從而在感興趣的尖端(諸如錫滴)處有效地利用激光束。為了控制激光束的對準，或者通常是電磁輻射束(在本文中通稱為光束)的對準，可以操縱束傳遞系統中的一個或更多個光學部件。光束的操縱可以包括光束的束指向的線性分量和/或角度分量(或束指向穩定性或精確度)的對準。束指向的線性分量可以源自光束在垂直于(或基本垂直于)光束傳播軸線的方向上的位移。術語“線性分量”可以指示束在與束相交的參考平面中的位置。束指向的角度分量可以源自光束相對于某個參考軸線的傾倒或傾斜，即，束的角度分量可以源自具有與參考軸的方向不同的傳播方向的電磁輻射。術語“角度分量”可以包含或稱為束指向，并且表示光束相對于參考軸的參考方向的傳播方向。

用于確定光束對準的方法可以包括使用對準系統，該對準系統包括例如一個或更多個分束器、反射鏡和/或透鏡，以便在諸如照相機的檢測器上產生光束的圖像。然后，可以在顯示監視器上呈現由照相機捕獲的圖像，以供操作人員檢查。然而，使用這種對準系統可能需要額外的空間，在該額外的空間中對準系統將被安裝用于操作用途。這可能使這些方法變得不適合用于空間可能被限制的光刻系統。

使用這種對準系統可能導致僅關于由檢測器檢測到的束的線性分量和角度分量之一的信息。用戶可能需要在光束的路徑中移動或重新定向分束器、反射鏡和/或透鏡，以接收關于光束的線性分量或角度分量中的任一個的信息。這可能導致增加光刻系統中光束對準所需的時間。

本發明的一個目的是消除或減輕現有技術的至少一個問題。

發明內容