[發明專利]光學裝置和相關方法

有效

• 申請號: 201780077291.6
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN110088684B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: S·S·R·奧馬羅辛哈;A·J·布里克;A·M·斯卓克肯;恩格爾伯塔斯·安東尼納斯·弗朗西絲克斯·范德帕斯奇;B·P·范德利恩胡森
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王益

1.一種輻射源系統，包括對準系統，所述對準系統被配置成用于確定電磁輻射束相對于參考平面中的參考位置的位置，并且用于確定所述電磁輻射束相對于所述參考平面中的參考方向的方向，其中：

所述對準系統被配置成用于將表示與所述參考平面相交的所述電磁輻射束的圖像投影到檢測平面上；

所述對準系統包括衍射光學系統；

所述衍射光學系統是能夠操作的以將所述電磁輻射束衍射成不同的衍射級；

所述衍射光學系統具有第一透鏡和第二透鏡；

所述第一透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的第一部位上產生所述不同的衍射級中的第一特定衍射級的第一投影；和

所述第二透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的不同于所述第一部位的第二部位上產生所述不同的衍射級中的第二特定衍射級的第二投影，

其中，所述對準系統包括檢測系統，所述檢測系統被配置成用于檢測所述第一投影和所述第二投影。

2.根據權利要求1所述的輻射源系統，其中，所述第一投影和所述第二投影不重疊。

3.根據權利要求1或2所述的輻射源系統，其中：

所述不同的衍射級中的所述第一特定衍射級為第零階衍射級；

所述第一透鏡是能夠操作的以將所述電磁輻射束在與所述參考平面的橫截面中的強度分布的第一圖像投影到所述檢測平面上；和

所述不同的衍射級中的所述第二特定衍射級為第一階衍射級；

所述第二透鏡的焦距等于所述第二透鏡與所述檢測平面之間的距離。

4.根據權利要求1所述的輻射源系統，其中：

所述衍射光學系統具有第三透鏡；和

所述第三透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的不同于所述第一部位且不同于所述第二部位的第三部位上產生所述不同的衍射級中的第三特定衍射級的第三投影。

5.根據權利要求4所述的輻射源系統，其中：

所述不同的衍射級中的所述第二特定衍射級為第一階衍射級；和

所述不同的衍射級中的所述第三特定衍射級為另一個第一階衍射級。

6.根據權利要求1或2所述的輻射源系統，其中：

所述衍射光學系統具有第三透鏡、第四透鏡和第五透鏡；

所述第三透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的不同于所述第一部位且不同于所述第二部位的第三部位上產生所述不同的衍射級中的第三特定衍射級的第三投影；

所述第四透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的不同于所述第一部位、不同于所述第二部位、且不同于所述第三部位的第四部位上產生所述不同的衍射級中的第四特定衍射級的第四投影；以及

所述第五透鏡是能夠操作的以在所述檢測平面中的不同于所述第一部位、不同于所述第二部位、不同于所述第三部位、且不同于所述第四部位的第五部位上產生所述不同的衍射級中的第五特定衍射級的第五投影。

7.根據權利要求6所述的輻射源系統，其中：

所述衍射光學系統實現二維光柵；

所述二維光柵是能夠操作的以產生四個不同的第一階衍射級(0,1)、(1,0)、(-1,0)和(0，-1)；

所述不同的衍射級中的所述第一特定衍射級為第零階衍射級；

所述不同的衍射級中的所述第二特定衍射級是所述四個不同的第一階衍射級中的第一個；

所述不同的衍射級中的所述第三特定衍射級是所述四個不同的第一階衍射級中的第二個；

所述不同的衍射級中的所述第四特定衍射級是所述四個不同的第一階衍射級中的第三個；

所述不同的衍射級中的所述第五特定衍射級是所述四個不同的第一階衍射級中的第四個；

所述第一透鏡是能夠操作的以將所述電磁輻射束在與所述參考平面的橫截面中的強度分布的第一圖像投影到所述檢測平面上；和

所述第二透鏡、所述第三透鏡、所述第四透鏡和所述第五透鏡中的每一相應的透鏡具有各自的焦距，所述焦距等于相應的透鏡與所述檢測平面之間的距離。

8.根據權利要求1所述的輻射源系統，其中所述衍射光學系統包括全息圖。