[發明專利]靶用遮擋件機構及具備該靶用遮擋件機構的成膜裝置

有效

• 申請號: 201780077254.5
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN110036135B
• 公開（公告）日: 2022-01-04
• 發明（設計）人: 大庭尚樹
• 申請（專利權）人: 株式會社神戶制鋼所
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張澤洲;譚祐祥

提供將靶(3)的基材相向面(30)開閉的遮擋件機構。遮擋件機構具備具有分別具有第一及第二邊緣部(30a、30b)的第一及第二遮擋板(11A、11B)的遮擋件(6)、以第一及第二遮擋板(11A、11B)能夠在第一及第二邊緣部(30a、30b)重合的閉位置和開位置之間轉移的方式使第一及第二遮擋板(11A、11B)繞沿基材相向面(30)的法線方向延伸的第一及第二旋轉軸(SA、SB)旋轉自如地分別支承的第一及第二旋轉支承部(13A、13B)。第一及第二旋轉軸(13A、13B)以第一及第二邊緣部(30a、30b)在開位置沿著基材相向面(30)的邊的方式被隔著第一及第二邊緣部(30a、30b)的重疊區域在兩側分開地配置。

技術領域

本發明涉及用于將濺射所使用的靶開閉自如地覆蓋的靶用遮擋件機構及具備該靶用遮擋件機構的成膜裝置。

背景技術

在通過濺射進行基材表面的成膜的成膜裝置中，使用由互不相同的材料構成的多個靶分別個別地進行成膜處理的情況下，為了抑制從其他靶飛出的顆粒污染不使用的靶的表面，需要具備將該多個靶的每一個個別地覆蓋的遮擋件的遮擋件機構。用于這樣地覆蓋靶的遮擋件機構能夠用于預濺射。該預濺射是用于將附著于靶的表面的污垢除去的工序，在使用該靶的成膜處理前進行。為了使向基材的膜附著停留在最小限度，在將靶用遮擋件遮蓋的狀態下對該靶施加電壓來使存在于靶的表面的物質的顆粒放出，由此進行該預濺射。因此，在上述那樣的成膜處理或預濺射中，污垢均容易附著于前述遮擋件。

作為搭載于以往的成膜裝置的遮擋件機構，已知專利文獻1所記載的機構。該遮擋件機構具備旋轉軸和遮擋板。前述旋轉軸在沿靶的與基材相向的面(以下稱作靶面)方向延伸。前述遮擋板通過以前述旋轉軸為中心向從靶向基材的方向或向其相反的方向擺動來將前述靶開閉。

在該遮擋件機構中，前述遮擋板向打開方向即接近基材的方向動作時，有附著于該遮擋板的污垢的碎片剝離而附著于基材的可能。這樣的污垢向基材的附著成為形成于基材的膜的缺陷、該膜的密接不良的原因。此外，該遮擋件機構在靶和基材之間需要用于將遮擋板開閉的空間，所以難以實現成膜裝置的小型化。

作為解決前述的基材的污染的問題及遮擋件機構的設置空間的問題的手段，考慮在沿著靶面的方向上，即與靶面平行地使遮擋板移動來使靶開閉，使得遮擋板不接近基板。

例如，專利文獻2公開了搭載于濺射裝置的遮擋件機構，前述遮擋件機構具有遮擋件、移動機構，前述遮擋件具有比靶面的面積大的面積，使得其覆蓋該靶面的整體，前述移動機構使該遮擋件在該遮擋件覆蓋前述靶面的閉位置和該遮擋件從該靶面在沿著該靶面的方向上離開的開位置之間移動。前述移動機構具有旋轉軸部和臂，前述旋轉軸部在從靶面偏離的位置沿該靶面的法線方向延伸，能夠繞該軸旋轉，前述臂固定于該旋轉軸部的末端，在沿靶面的方向上延伸。該臂具有以前述旋轉軸部為中心轉動的末端，在該末端固定有前述遮擋件。前述旋轉軸部能夠沿前述法線方向移動，通過該移動，能夠使前述遮擋件向該遮擋件相對于靶面接近的方向或遠離的方向直線移動。進而，前述遮擋件及前述臂能夠與前述旋轉軸部一同以該旋轉軸部為中心在沿前述靶面的方向上轉動。前述移動機構使處于前述閉位置的前述遮擋件以從前述靶面遠離的方式向該靶面的法線方向直線移動，之后，使該遮擋件以前述旋轉軸部為中心在沿靶面的方向上轉動，由此能夠使該遮擋件從前述靶面避讓至向側方離開的開位置。

但是，專利文獻2所述的遮擋件機構為了使覆蓋靶面的整體的遮擋件從閉位置移動至開位置，使該遮擋件進行向從靶面離開的方向的直線移動和以旋轉軸部為中心的轉動的雙方，所以在前述靶的側方需要接納前述遮擋件的避讓空間，并且該避讓空間必須有比前述靶面的面積大的面積。這妨礙成膜裝置的小型化。換言之，成膜裝置的小型化難以確保真空腔內部的前述靶的周邊的前述避讓空間。

此外，前述遮擋件機構為了能夠進行前述直線移動及轉動的雙方而需要復雜的構造。這使得成膜處理時產生的皮膜的碎片等附著于移動機構而產生該遮擋件機構的動作不良的可能性變高。

專利文獻1 : 日本特開平5-339725號公報。