[發明專利]靶用遮擋件機構及具備該靶用遮擋件機構的成膜裝置

有效

• 申請號: 201780077254.5
• 申請日: 2017-11-21
• 公開（公告）號: CN110036135B
• 公開（公告）日: 2022-01-04
• 發明（設計）人: 大庭尚樹
• 申請（專利權）人: 株式會社神戶制鋼所
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張澤洲;譚祐祥

1.一種靶用遮擋件機構，前述靶用遮擋件機構將靶開閉自如地覆蓋，前述靶被用于濺射，具有與通過該濺射成膜的基材相向的基材相向面，其特征在于，

具備遮擋件、第一旋轉支承部、第二旋轉支承部、驅動裝置，

前述遮擋件具有在前述基材相向面和前述基材之間的位置在沿該基材相向面的方向上能夠移動的第一遮擋板及第二遮擋板，該第一遮擋板及該第二遮擋板分別具有在該基材相向面和前述基材之間的位置能夠互相接觸或接近的第一邊緣部及第二邊緣部，

前述第一旋轉支承部以能夠繞沿前述基材相向面的法線方向延伸的第一旋轉軸旋轉的方式支承前述第一遮擋板，

前述第二旋轉支承部以能夠繞沿前述基材相向面的法線方向延伸的第二旋轉軸旋轉的方式支承前述第二遮擋板，

前述驅動裝置將前述第一遮擋板及第二遮擋板分別繞前述第一旋轉軸及繞前述第二旋轉軸旋轉驅動，

前述第一旋轉支承部及前述第二旋轉支承部將該第一遮擋板及該第二遮擋板旋轉自如地支承，使得前述第一遮擋板及前述第二遮擋板通過繞前述第一旋轉軸及繞前述第二旋轉軸的各自的旋轉，能夠在閉位置和開位置之間轉移，在前述閉位置，在前述基材相向面和前述基材之間的位置，在前述第一邊緣部和前述第二邊緣部互相接觸或接近的狀態下該第一遮擋板及該第二遮擋板將前述基材相向面關閉，在前述開位置，通過該第一遮擋板及該第二遮擋板以前述第一邊緣部和前述第二邊緣部互相離開的方式分別從前述基材相向面和前述基材之間的位置避讓，相對于該基材將該基材相向面敞開，

前述第一旋轉軸及前述第二旋轉軸被配置成，以前述第一邊緣部及前述第二邊緣部在前述開位置沿著前述基材相向面的外周的邊緣的至少一部分的方式，隔著在前述第一遮擋板及前述第二遮擋板處于前述閉位置時前述第一邊緣部及前述第二邊緣部互相接觸或接近的區域即閉位置邊緣部區域在兩側分開，

前述第一旋轉軸及前述第二旋轉軸以前述開位置處的前述第一遮擋板及第二遮擋板的前述第一邊緣部及前述第二邊緣部分別沿著前述靶的基材相向面的外周的邊緣的互相相向的部分的方式，在該第一旋轉軸及該第二旋轉軸之間隔著前述基材相向面地配置于該基材相向面的兩側，

前述靶的前述基材相向面具有矩形形狀，前述第一遮擋板及前述第二遮擋板被配置成，從前述基材相向面的法線方向觀察，前述閉位置邊緣部區域沿著從前述基材相向面的兩個對角線之中選的特定對角線，前述第一旋轉軸及前述第二旋轉軸分開配置于前述特定對角線的兩側。

2.如權利要求1所述的靶用遮擋件機構，其特征在于，

前述第一旋轉軸從前述基材相向面的法線方向觀察，配置于將前述特定對角線的延長線和前述基材相向面的外周的邊緣的互相相向的兩個邊中的第一邊所成的角度二等分的半直線之上，前述第二旋轉軸配置于將前述特定的一個對角線的延長線和前述基材相向面的外周的邊緣的互相相向的兩個邊中的與前述第一邊相反的第二邊所成的角度二等分的半直線之上。