[發明專利]具有凹形開口構造的噴嘴裝置和用于分配粘性施涂介質的方法

在審

• 申請號: 201780074075.6
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN110022985A
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: B·克拉夫特;D·諾亞克
• 申請（專利權）人: 杜爾系統股份公司
• 主分類號: B05B1/04
• 分類號: B05B1/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周家新

1.一種噴嘴裝置(1、10)，其用于將粘性施涂介質以至少一個射流(S1、S2)的形式分配至構件(100)上、優選用于將施涂介質圍繞地施涂至構件(100)的褶皺、邊緣或過渡接頭上，所述至少一個射流(S1、S2)限定出一射流寬度(B1、B2)，所述噴嘴裝置(1、10)包括：用于形成至少一個縫型開口(3.1、3.2)的開口構造(2)，以用于分配施涂介質，其特征在于，開口構造(2)形成為凹形，以便使射流寬度(B1、B2)朝向分配側(A)變窄。

2.根據權利要求1所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，開口構造(2)形成在噴嘴裝置(1、10)的端部側(4)，所述端部側(4)形成為凹形。

3.根據權利要求1或2所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，開口構造(2)、進而的所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)和/或端部側(4)形成為凹形地彎曲。

4.根據前述權利要求中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，開口構造(2)對于沿著開口構造(2)的縱向截面(A-A)而言形成為凹形。

5.根據前述權利要求中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，開口構造(2)由噴涂邊緣結構(2.1、2.2、2.3、2.4)限定，施涂介質能夠從所述噴涂邊緣結構被噴射。

6.根據前述權利要求中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，開口構造(2)、進而的所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)形成為至少基本上在其整個縱向尺度(L)上凹形地彎曲。

7.根據前述權利要求中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，噴嘴裝置(1、10)包括用于將施涂介質供送至開口構造(2)并進而供送至所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)的材料切口(5、6)。

8.根據權利要求7所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，材料切口(5、6)在開口構造(2)中敞開，進而在分配側形成開口構造(2)、進而的所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)。

9.根據權利要求7或8所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，通過材料切口(5、6)，施涂介質能夠在開口構造(2)的縱向尺度(L)上分布。

10.根據權利要求7-9中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，材料切口(5、6)包括導管部分(5)和布置在所述導管部分(5)下游的腔室部分(6)，其中，腔室部分(6)向開口構造(2)敞開，腔室部分(6)的通道橫截面大于導管部分(5)的通道橫截面。

11.根據權利要求7-10中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，材料切口(5、6)的橫截面形成為扁平形和/或圓形。

12.根據權利要求7-11中任一項所述的噴嘴裝置(1)，其特征在于，材料切口(5、6)在兩側具有能夠使分配的介質朝向所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)向內偏轉的內側壁(F1、F2)。

13.根據前述權利要求中任一項所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，突出的喇叭結構(7.1、7.2)布置在鄰近開口構造(2)的外部兩側上，喇叭結構(7.1、7.2)包括至少兩個向內形成的內側壁(8.1、8.2)。

14.根據權利要求13所述的噴嘴裝置(1、10)，其特征在于，內側壁(8.1、8.2)作用在從所述至少一個縫型開口(3.1、3.2)出來的施涂介質上，以便支持射流寬度(B1、B2)變窄和/或以便向內偏轉施涂介質。