[發明專利]具有可調節的加熱特性的烹飪爐排在審
| 申請號: | 201780073857.8 | 申請日: | 2017-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN110087517A | 公開(公告)日: | 2019-08-02 |
| 發明(設計)人: | M.艾哈邁德 | 申請(專利權)人: | W.C.布拉德利公司 |
| 主分類號: | A47J37/06 | 分類號: | A47J37/06;A47J27/00;A47J37/00;A47J37/07;A47J43/25;F23H1/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 任霄;譚祐祥 |
| 地址: | 美國喬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 爐排 烹飪表面 固定關系 橫向構件 烹飪爐排 烹飪 加熱特性 間接路徑 可調節 裝配 行進 | ||
1.一種烹飪爐排,包括:
第一上部子爐排,所述第一上部子爐排具有通過至少一個上部橫向構件相對于彼此以固定關系保持的第一多個烹飪構件;以及
第二下部子爐排,所述第二下部子爐排具有通過至少一個下部橫向構件相對于彼此以固定關系保持的第二多個烹飪構件;
其中,所述第一和第二子爐排被構造成裝配在一起,使得其相應烹飪構件相互裝配,以便限定第一烹飪表面,所述第一烹飪表面相對于對流加熱以相對高程度的輻射加熱進行加熱;
其中,所述第一和第二子爐排各自限定第二烹飪表面,所述第二烹飪表面相對于對流加熱以相對低程度的輻射加熱進行加熱;并且
其中,所述第一和第二子爐排裝配在一起,使得僅間接路徑從所述烹飪表面下方保持到所述烹飪表面上方,使得阻止火焰從所述烹飪表面下方行進到所述烹飪表面上方。
2.根據權利要求1所述的烹飪爐排,其中,所述第一和第二子爐排的所述烹飪構件具有倒V形,其中,所述第一和第二子爐排的所述烹飪構件的頂點終止在大致相同的水平處。
3.根據權利要求2所述的烹飪爐排,其中,所述第一和第二子爐排中的一者的所述烹飪構件具有腿部,所述腿部延伸以終止在另一個子爐排的烹飪構件的腿部下方。
4.根據權利要求3所述的烹飪爐排,其中,所述第一和第二子爐排的所述烹飪構件側向重疊。
5.根據權利要求4所述的烹飪爐排:
其中,所述第一子爐排以距彼此第一預定的間距來保持其相關聯的烹飪構件;
其中,所述第二子爐排以距彼此第二預定的間距來保持其相關聯的烹飪構件;并且
其中,所述第一和第二預定的間距不同,以便在輻射加熱和對流加熱之間提供不同程度的加熱。
6.一種烹飪爐排,包括:
兩個集成子爐排,每一集成子爐排具有使多個烹飪構件相對于彼此以固定關系維持的兩個端部橫向構件;
其中,相應子爐排中的每一者的至少一個端部上的橫向構件嵌套,以便防止子爐排之間的端到端移動;并且
其中,一個子爐排的烹飪構件與另一個子爐排的烹飪構件交錯來形成烹飪表面,所述烹飪表面可操作成通過阻擋通過所述烹飪表面的任何筆直豎直路徑來防止來自所述烹飪表面下方的烹飪火焰與擱置在所述烹飪表面的頂上的食物之間的接觸。
7.根據權利要求6所述的烹飪爐排,其中,所述子爐排中的每一者的所述多個烹飪構件包括倒V形,其中,頂點終止在相同水平處以形成烹飪表面。
8.根據權利要求7所述的烹飪爐排,其中,所述子爐排中的一者形成上部子爐排,并且另一個子爐排形成下部子爐排,并且所述下部子爐排的所述烹飪構件具有腿部,所述腿部在從所述上部子爐排的所述烹飪構件的頂點延伸的腿部的水平面下方從所述頂點向下延伸。
9.根據權利要求8所述的烹飪爐排,其中,所述上部和下部子爐排的腿部側向重疊。
10.根據權利要求6所述的烹飪爐排,其中,每一子爐排具有兩個橫向構件,其中,一個附連在所述多個烹飪構件的相對端部處。
11.根據權利要求10所述的烹飪爐排,其中,每一子爐排形成可以單獨使用的單獨的烹飪表面,并且每一單獨的烹飪表面提供比由組合子爐排形成的烹飪表面相對更高程度的對流烹飪能量。
12.根據權利要求11所述的烹飪爐排,其中,每一子爐排在其相鄰烹飪構件之間具有不同于另一個子爐排的側向間距。
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