[發明專利]閥裝置、使用該閥裝置的流量控制方法和半導體制造方法

有效

• 申請號: 201780073803.1
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN110023659B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 吉田俊英;中田知宏;篠原努;稻田敏之;船越高志;佐藤秀信;湯原知子
• 申請（專利權）人: 株式會社富士金
• 主分類號: F16K1/00
• 分類號: F16K1/00;F16K7/14;F16K31/122;H01L21/205;F16K31/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種閥裝置，其中，

該閥裝置具有：

閥體，其劃分出流路；

閥芯，其被設為能夠開閉所述流路；

操作構件，其被設為能夠使所述閥芯在開閉方向上移動；

主致動器，其賦予所述操作構件以與賦予的操作壓力相對應的驅動力；

切換機構，其能夠根據所述操作壓力的大小選擇將限定所述流路的開度的所述操作構件的位置切換至彼此不同的第1打開位置或第2打開位置；

調節機構，其能夠分別獨立地調節所述第1打開位置和第2打開位置；以及

調整用致動器，其用于調整被定位于所述第1打開位置或第2打開位置的所述操作構件的位置，

所述調整用致動器是利用壓電元件的伸縮的致動器。

2.根據權利要求1所述的閥裝置，其特征在于，

所述調節機構的所述第1打開位置的可調節范圍與所述第2打開位置的可調節范圍局部重疊。

3.根據權利要求1或2所述的閥裝置，其特征在于，

所述調節機構被設為能夠在使流體能夠在所述流路內流通的狀態下操作。

4.根據權利要求1或2所述的閥裝置，其特征在于，

所述閥芯包括隔板，

所述操作構件在所述第1打開位置和第2打開位置分別維持為所述隔板彈性變形的狀態。

5.一種流量控制方法，其中，

利用權利要求1～4中任一項所述的閥裝置控制流體的流量。

6.一種半導體制造方法，其中，

在需要在密閉的室內進行工藝氣體的處理工序的半導體裝置的制造工藝中，將權利要求1～4中任一項所述的閥裝置用于所述工藝氣體的流量控制。

7.一種流體控制裝置，

該流體控制裝置具有多個流體設備，其中，

所述流體設備包括權利要求1～4中任一項所述的閥裝置。

8.一種半導體制造裝置，其中，

該半導體制造裝置包括權利要求1～4中任一項所述的閥裝置，以在需要在密閉的室內進行工藝氣體的處理工序的半導體裝置的制造工藝中用于所述工藝氣體的控制。