[發明專利]使用疊層差異的設計和校正

有效

• 申請號: 201780069903.7
• 申請日: 2017-11-09
• 公開（公告）號: CN110140087B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 蔣愛琴;A·J·登鮑埃夫;K·巴塔查里亞;H·范德拉恩;B·菲瑟;M·J·J·杰克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/956;H01L21/66
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種量測方法，包括：

獲得用于圖案化過程的、是量測目標的疊層差異參數的函數的所述量測目標的重疊的數據的擬合；和

通過硬件計算機使用所述擬合的斜率以：(i)區分一個量測目標測量選配方案與另一個量測目標測量選配方案；或者(ii)計算重疊的校正值；或者(iii)指示利用所述量測目標獲得的重疊測量值應該被使用或者不應該被使用，以配置或修改所述圖案化過程；或者(iv)選自(i)至(iii)中的任意組合。

2.如權利要求1所述的量測方法，其中，在所述量測目標的圖像的像素水平，計算所述重疊和疊層差異參數數據。

3.如權利要求1所述的量測方法，其中，根據從所述量測目標測得的衍射輻射的強度的圖像平面檢測，計算所述重疊和疊層差異參數。

4.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，還包括：通過使用用于所述量測目標的第一周期性結構的圖像的第一部位的輻射強度數據與用于所述量測目標的第二周期性結構的圖像的第二部位的輻射強度數據的組合，導出所述重疊和/或疊層差異參數數據，其中，所述第二部位在與所述第一部位旋轉對稱的位置。

5.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，其中，所述疊層差異參數包括所述量測目標的具有第一偏置值的周期性結構的強度值的組合減去所述量測目標的具有不同的第二偏置值的周期性結構的強度值的組合。

6.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，其中，所述擬合是線性擬合。

7.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，包括：使用所述擬合的斜率計算重疊的校正值。

8.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，包括：使用所述擬合的斜率區分一個量測目標測量選配方案與另一個量測目標測量選配方案。

9.如權利要求1至3中任一項所述的量測方法，包括：基于所述擬合的斜率配置或修改所述圖案化過程。

10.一種量測方法，包括：

獲得用于圖案化過程的量測目標的區域的周期性結構強度不平衡性參數值，所述區域被預期為具有最小疊層差異；

找出非重疊誘發的周期性結構強度不平衡性參數值，所述非重疊誘發的周期性結構強度不平衡性參數值用作用于所述量測目標的平均周期性結構強度不平衡性參數值與用于所述區域的周期性結構強度不平衡性參數值之間的差值；以及

使用非重疊誘發的周期性結構強度不平衡性參數差值計算校正重疊值。

11.如權利要求10所述的量測方法，還包括：組合所述非重疊誘發的周期性結構強度不平衡性參數差值與用于所述量測目標的重疊的數據的擬合的斜率，以計算所述校正重疊值，所述擬合的斜率是所述量測目標的疊層差異誘發的周期性結構強度不平衡性參數的函數。

12.如權利要求10所述的量測方法，其中，所述區域是所述量測目標的第一周期性結構內的部位，并且從所述區域到所述量測目標的第二周期性結構的距離介于所述第一周期性結構與所述第二周期性結構之間的最短距離的90％至110％之間，所述量測目標的第二周期性結構具有不同的第二偏置。

13.如權利要求10至12中任一項所述的量測方法，還包括：通過使用用于所述量測目標的第一周期性結構的圖像的第一部位的輻射強度數據與用于所述量測目標的第二周期性結構的圖像的第二部位的輻射強度數據的組合，導出所述區域的周期性結構強度不平衡性參數，其中，所述第二部位在與所述第一部位旋轉對稱的位置。

14.如權利要求10至12中任一項所述的量測方法，其中，所述區域的周期性結構強度不平衡性參數包括：所述量測目標的具有第一偏置值的周期性結構的強度值的組合減去所述量測目標的具有不同的第二偏置值的周期性結構的強度值的組合。