[發(fā)明專利]閥裝置、使用該閥裝置的流量控制方法和半導(dǎo)體制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780069196.1 | 申請日: | 2017-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN109952459B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉田俊英;中田知宏;篠原努;稻田敏之;船越高志 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社富士金 |
| 主分類號: | F16K31/02 | 分類號: | F16K31/02;F16K31/122 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 使用 流量 控制 方法 半導(dǎo)體 制造 | ||
1.一種閥裝置,其特征在于,
該閥裝置具有:
閥體,其劃分出流路;
閥芯,其被設(shè)為能夠開閉所述閥體的流路;
操作構(gòu)件,其用于操作所述閥芯,被設(shè)為能夠在使所述閥芯開閉流路的開閉方向上在預(yù)先設(shè)定的使所述閥芯關(guān)閉流路的關(guān)閉位置與預(yù)先設(shè)定的使所述閥芯打開流路的打開位置之間移動(dòng);
主致動(dòng)器,其用于使所述操作構(gòu)件移動(dòng)至所述打開位置或關(guān)閉位置;以及
調(diào)整用致動(dòng)器,其用于調(diào)整被定位于所述打開位置的所述操作構(gòu)件的位置,
所述調(diào)整用致動(dòng)器是利用壓電元件的伸縮的致動(dòng)器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥裝置,其特征在于,
所述主致動(dòng)器使所述操作構(gòu)件移動(dòng)至所述打開位置,
所述調(diào)整用致動(dòng)器調(diào)整利用所述主致動(dòng)器定位于所述打開位置的所述操作構(gòu)件的所述開閉方向的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥裝置,其特征在于,
所述調(diào)整用致動(dòng)器相對于所述閥體而言配置于規(guī)定位置,利用該調(diào)整用致動(dòng)器的頂端部承接作用于到達(dá)所述打開位置的所述操作構(gòu)件的力而限制該操作構(gòu)件的移動(dòng),并且調(diào)整該操作構(gòu)件的所述開閉方向的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的閥裝置,其特征在于,
所述調(diào)整用致動(dòng)器通過從所述頂端部到基端部的全長在所述開閉方向上伸縮來調(diào)整所述操作構(gòu)件的所述開閉方向的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的閥裝置,其特征在于,
在所述操作構(gòu)件與所述調(diào)整用致動(dòng)器之間夾有始終朝向所述規(guī)定位置對該調(diào)整用致動(dòng)器施力的彈性構(gòu)件。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的閥裝置,其特征在于,
在所述操作構(gòu)件與所述調(diào)整用致動(dòng)器之間夾有始終朝向所述規(guī)定位置對該調(diào)整用致動(dòng)器施力的彈性構(gòu)件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥裝置,其特征在于,
所述調(diào)整用致動(dòng)器具有:殼體,其在所述開閉方向上具有基端部和頂端部;以及壓電元件,其收納在該殼體內(nèi),并層疊在所述基端部與所述頂端部之間,利用所述壓電元件的伸縮使該殼體的所述基端部與所述頂端部之間的全長伸縮。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的閥裝置,其特征在于,
所述主致動(dòng)器是以氣壓為驅(qū)動(dòng)源的致動(dòng)器。
9.一種流量控制方法,其中,
該流量控制方法利用權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的閥裝置調(diào)整流體的流量。
10.一種流體控制裝置,該流體控制裝置具有多個(gè)流體設(shè)備,
其特征在于,
所述流體設(shè)備包括權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的閥裝置。
11.一種半導(dǎo)體制造方法,其特征在于,
在需要在密閉的室內(nèi)進(jìn)行工藝氣體的處理工序的半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的閥裝置用于所述工藝氣體的流量控制。
12.一種半導(dǎo)體制造裝置,其特征在于,
在需要在密閉的室內(nèi)進(jìn)行工藝氣體的處理工序的半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的閥裝置用于所述工藝氣體的控制。
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