[發(fā)明專利]用于光刻過程的優(yōu)化的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780066481.8 | 申請(qǐng)日： | 2017-10-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109891324B | 公開（公告）日： | 2021-05-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | E·C·摩斯;J·S·威爾登伯格;E·J·M·沃勒伯斯;M·范德斯卡;弗蘭克·斯塔爾斯;F·H·A·葉利奇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 張啟程 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 光刻 過程 優(yōu)化 方法 | ||
一種用于改善光刻過程的成品率的方法，所述方法包括：確定整個(gè)襯底的性能參數(shù)的參數(shù)指紋，所述參數(shù)指紋包括與所述性能參數(shù)的不確定性相關(guān)的信息；確定整個(gè)所述襯底的性能參數(shù)的過程窗口指紋，過程窗口與所述性能參數(shù)的可允許范圍相關(guān)聯(lián)；以及確定與所述性能參數(shù)在可允許范圍之外的概率相關(guān)聯(lián)的概率度量。可選地，基于所述概率度量來確定對(duì)所述光刻過程的校正。
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)要求于2016年10月26日遞交的EP申請(qǐng)16195819.4、于2016年12月22日遞交的EP申請(qǐng)16206235.0以及于2017年8月7日遞交的EP申請(qǐng)17185056.3的優(yōu)先權(quán)，上述EP申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容以引用的方式并入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及器件制造，更具體地涉及用于改善光刻過程的成品率的方法。
背景技術(shù)
光刻設(shè)備是將期望的圖案施加到襯底上(通常施加到襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例如制造集成電路(IC)。在這種情況下，圖案化裝置(其可替代地被稱作掩模或掩模版)可以用于產(chǎn)生待形成于IC的單層上的電路圖案。該圖案可以轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括管芯的一部分、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常經(jīng)由成像到設(shè)置于襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進(jìn)行圖案的轉(zhuǎn)移。通常，單個(gè)襯底將包含連續(xù)圖案化的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。
在光刻過程中，希望經(jīng)常對(duì)所產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)量，例如用于過程控制和驗(yàn)證。用于進(jìn)行此類測(cè)量的各種工具是已知的，包括：經(jīng)常用于測(cè)量臨界尺寸(CD)的掃描電子顯微鏡；用于測(cè)量器件中的兩個(gè)層的重疊量、對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)確度的專用工具；以及能夠測(cè)量圖案化襯底的各種性質(zhì)的散射儀。
在已經(jīng)對(duì)整個(gè)襯底測(cè)量了諸如重疊的性質(zhì)的情況下，已知的過程優(yōu)化技術(shù)調(diào)整用于該襯底或其它襯底的后續(xù)曝光的相關(guān)成像參數(shù)，以便優(yōu)化整個(gè)襯底的該性質(zhì)的均方根誤差。然而，這種方法并不總是最優(yōu)的。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在改善光刻器件制造過程的成品率。
本發(fā)明在第一方面中提供一種用于改善光刻過程的成品率的方法，所述方法包括：
確定整個(gè)襯底的性能參數(shù)的參數(shù)指紋，所述參數(shù)指紋包括與所述性能參數(shù)的不確定性相關(guān)的信息；
確定整個(gè)襯底的性能參數(shù)的過程窗口指紋，過程窗口與所述性能參數(shù)的可允許范圍相關(guān)聯(lián)；以及
使用所述參數(shù)指紋和所述過程窗口指紋來確定與所述性能參數(shù)在可允許范圍之外的概率相關(guān)聯(lián)的概率度量。
本發(fā)明在第二方面中提供一種用于改善光刻過程的成品率的方法，所述方法包括：
確定整個(gè)襯底的性能參數(shù)的不確定性指紋；
確定整個(gè)所述襯底的性能參數(shù)的過程窗口指紋，過程窗口與所述性能參數(shù)的可允許范圍相關(guān)聯(lián)；
確定與所述性能參數(shù)在可允許范圍之外的概率相關(guān)聯(lián)的概率度量；以及
基于所述概率度量來確定量測(cè)目標(biāo)在所述襯底上的位置。
本發(fā)明在第三方面中提供一種用于改善光刻過程的成品率的方法，所述方法包括：
確定整個(gè)襯底的性能參數(shù)的不確定性指紋；
確定整個(gè)所述襯底的性能參數(shù)的過程窗口指紋，過程窗口與所述性能參數(shù)的可允許范圍相關(guān)聯(lián)；
確定與所述性能參數(shù)在可允許范圍之外的概率相關(guān)聯(lián)的概率度量；以及
基于所述概率度量來確定量測(cè)目標(biāo)在所述襯底上的測(cè)量位置。
本發(fā)明在第四方面中提供一種用于改善光刻過程的成品率的方法，所述方法包括：
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