[發(fā)明專利]酸性氫氧化鋯

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780065346.1
• 申請日: 2017-01-30
• 公開（公告）號: CN109863121B
• 公開（公告）日: 2022-12-23
• 發(fā)明（設計）人: H·斯蒂芬森;伊琳娜·徹普爾納;D·J·哈里斯;大衛(wèi)·斯卡彭斯
• 申請（專利權）人: 鎂電子有限公司
• 主分類號: C01G25/00
• 分類號: C01G25/00;B01J21/06;C01G25/02;C01G33/00;C01G35/00;C01G39/00;C01G19/02;C01G23/04;C01G25/06;C01G39/02;C01B33/12;B01J21/08;B01J23/14;B01J23/1
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權代理有限公司 11262
• 代理人: 孫琳琳;鄭霞

1.一種氫氧化鋯，基于氧化物包含至多30wt％的摻雜劑，所述摻雜劑包括硅、硫酸鹽、磷酸鹽、鎢、鈮、鋁、鉬、鈦或錫中的一種或更多種，并且所述氫氧化鋯具有酸位點，其中所述酸位點中的大多數(shù)是路易斯酸位點，并且所述氫氧化鋯具有比布朗斯臺德酸位點更多的路易斯酸位點，其中：

(i)當基于氧化物包含少于0.1wt％的摻雜劑時，所述摻雜劑包括硅、硫酸鹽、磷酸鹽、鎢、鈮、鋁、鉬、鈦或錫的一種或更多種，所述氫氧化鋯是多孔的，并且關于具有至多155nm的孔徑的孔，孔體積的至少70％由具有按照使用BJH方法測量的3.5nm-155nm的孔徑的孔提供；或

(ii)當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的硫酸鹽時，所述氫氧化鋯具有至少375m²/g的表面積；或

(iii)當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的氫氧化鎢或氧化鎢時，所述氫氧化鋯具有至少400m²/g的表面積。

2.如權利要求1所述的氫氧化鋯，其中，當基于氧化物包含少于0.1wt％的摻雜劑時，所述氫氧化鋯的孔體積的至少75％由具有按照使用BJH方法測量的3.5nm-155nm的孔徑的孔提供。

3.如權利要求1所述的氫氧化鋯，其中，當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的硫酸鹽時，所述氫氧化鋯具有按照通過N₂物理吸附測量的至少0.50cm³/g的總孔體積。

4.如權利要求3所述的氫氧化鋯，其中所述氫氧化鋯基于氧化物包含1wt％-12wt％的硫酸鹽。

5.如權利要求1所述的氫氧化鋯，其中，當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的氫氧化鎢或氧化鎢時，所述氫氧化鋯具有按照通過N₂物理吸附測量的至少0.7cm³/g的總孔體積。

6.如權利要求5所述的氫氧化鋯，其中所述氫氧化鋯基于氧化物包含12wt％-20wt％的氫氧化鎢或氧化鎢。

7.一種氧化鋯，基于氧化物包含至多30wt％的摻雜劑，所述摻雜劑包括硅、硫酸鹽、磷酸鹽、鎢、鈮、鋁、鉬、鈦或錫中的一種或更多種，并且所述氧化鋯具有酸位點，其中所述酸位點中的大多數(shù)是路易斯酸位點，并且所述氧化鋯具有比布朗斯臺德酸位點更多的路易斯酸位點，其中：

(i)當基于氧化物包含少于0.1wt％的摻雜劑時，所述摻雜劑包括硅、硫酸鹽、磷酸鹽、鎢、鈮、鋁、鉬、鈦或錫中的一種或更多種，所述氧化鋯具有在450℃在空氣氣氛中煅燒持續(xù)2小時之后按照通過XRD測量的至少80wt％的單斜相，或者，所述氧化鋯具有在900℃在空氣氣氛中煅燒持續(xù)2小時之后至少15m²/g的表面積；或

(ii)當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的硫酸鹽時，所述氧化鋯具有在600℃在空氣氣氛中煅燒持續(xù)2小時之后按照通過TPD測量的至少800μmol/g的NH₃吸收量；或

(iii)當基于氧化物包含0.1wt％-30wt％的氫氧化鎢或氧化鎢時，所述氧化鋯具有在700℃在空氣氣氛中煅燒持續(xù)2小時之后按照通過TPD測量的至少420μmol/g的NH₃吸收量；或

(iv)當基于氧化物包含4.5wt％-30wt％的氫氧化硅或氧化硅時，所述氧化鋯具有在850℃煅燒持續(xù)2小時之后按照通過TPD測量的至少330μmol/g的NH₃吸收量。

8.如權利要求7所述的氧化鋯，其中，當基于氧化物包含少于0.1wt％的摻雜劑時，所述氧化鋯在900℃在空氣氣氛中煅燒持續(xù)2小時之后，具有按照通過N₂物理吸附測量的至少0.10cm³/g的總孔體積。