[發明專利]用于制造印刷電路板的方法有效
| 申請號: | 201780062323.5 | 申請日: | 2017-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN109845415B | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發明(設計)人: | 曺元珍;馬爾庫·拉格爾;迪爾克·特夫斯;林釗文 | 申請(專利權)人: | 德國艾托特克公司 |
| 主分類號: | H05K3/28 | 分類號: | H05K3/28;H05K3/34;H05K3/38;H05K3/46;H05K3/24 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 林斯凱 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制造 印刷 電路板 方法 | ||
1.一種用于制造印刷電路板的方法,所述方法包括按下列次序的步驟:
(i)提供不導電襯底,其在至少一個表面上具有
-銅電路系統,其具有銅表面,其中所述銅表面是
-通過(a)氧化及后續還原反應及/或(b)附著至所述銅表面的有機化合物予以化學處理,
-永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層,其至少部分地覆蓋所述銅表面,
(ii)在140℃至250℃的范圍內的溫度下于某一氣氛中熱處理具有所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層的所述襯底,所述氣氛含有以所述氣氛的總體積計為100000ppm或更小的量的分子氧,使得獲得具有永久性、不導電覆蓋層的襯底,所述覆蓋層相較于步驟(i)更多地聚合,
限制條件為:
-在步驟(i)之后,但在將任何金屬或金屬合金沉積至所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層上之前,實行步驟(ii),且
-在步驟(ii)中,如果所述覆蓋層為防焊劑,那么在僅一個單一熱處理步驟中完全地聚合所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層。
2.根據權利要求1所述的方法,其中在步驟(i)(a)中,通過以下操作來化學處理所述銅表面:將Cu-(0)氧化成Cu-(I)及Cu-(II)且隨后在所述銅表面中還原所述Cu-(I)及Cu-(II),使得產生Cu-(0)。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(i)中的所述銅表面包括所述銅表面上的化學處理層,所述處理層的最大厚度為500nm或更小。
4.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述有機化合物為選自由以下各者組成的群組:唑、硅烷、唑-硅烷-混成物,及其組合。
5.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(i)中的所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層是選自由防焊劑及堆積層組成的群組。
6.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(i)中的所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層獨立地為干膜或液體。
7.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(i)中的所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層的層厚度為50μm或更小。
8.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(i)中的所述永久性、不導電、未完全聚合的覆蓋層包括環氧化合物。
9.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述氣氛中的分子氧的所述量為50000ppm或更小。
10.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(ii)中的所述氣氛為惰性氣體。
11.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(ii)中的所述溫度在142℃至220℃的范圍內。
12.根據權利要求1或2所述的方法,其中步驟(ii)實行達至少10分鐘。
13.根據權利要求1或2所述的方法,其另外包括在步驟(ii)之后的以下步驟:
(iii)將一種或多于一種金屬或金屬合金至少部分地沉積至(A)所述覆蓋層或(B)未由所述覆蓋層覆蓋的所述銅表面上。
14.一種印刷電路板,其包括
-不導電襯底,其在至少一個表面上具有銅電路系統,所述銅電路系統具有銅表面,其中所述襯底的所述表面及所述銅表面被覆蓋有環氧樹脂防焊劑,所述防焊劑是
-透明的,且
-層厚度為20μm或更小,
其中在所述防焊劑下方的所述銅表面
-為金屬銅色,且
-展現最大層厚度為200nm或更小的經轉化銅層,其中所述經轉化銅層包含呈氧化數0及+1的銅并且具有針型結構。
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