[發明專利]在其上形成有光屏蔽膜的波導及其制造方法

在審

• 申請號: 201780060170.0
• 申請日: 2017-11-23
• 公開（公告）號: CN109790967A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 金雅琳;俞在賢;樸圣恩;金俊衡
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: F21V8/00
• 分類號: F21V8/00;C09C1/48
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 張云志;陳英俊

1.一種波導，包括形成在平面波導的邊緣側的切割面上的光屏蔽膜：

其中，所述光屏蔽膜的厚度為2μm至10μm，

基于厚度為1.0μm的光屏蔽膜，所述光屏蔽膜的光密度(OD)為0.7至1.0。

2.根據權利要求1所述的波導，其中，所述光屏蔽膜包含選自炭黑、石墨、金屬氧化物和有機黑色顏料中的至少一種黑色油墨顏料。

3.根據權利要求1所述的波導，其中，基于所述光屏蔽膜的總重量，黑色油墨顏料的含量為10重量％至25重量％。

4.根據權利要求1所述的波導，其中，所述光屏蔽膜的厚度為3μm至7μm。

5.根據權利要求1所述的波導，其中，基于厚度為1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度為2μm至5μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)為0.80至1.0。

6.根據權利要求1所述的波導，其中，基于厚度為1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度為5μm至10μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)為0.70至0.90。

7.根據權利要求1所述的波導，其中，所述波導的所述光屏蔽膜的粘合力為4B至5B。

8.根據權利要求1所述的波導，其中，上面形成有所述光屏蔽膜的所述波導的所述切割面是平坦表面、彎曲表面或傾斜表面。

9.根據權利要求1所述的波導，其中，所述光屏蔽膜在所述波導的所述切割面的側面和側棱上形成。

10.一種波導的制造方法，包括：

a)在所述平面波導的邊緣側的切割面上涂布可固化的油墨組合物至厚度為2μm至10μm來形成光屏蔽膜的涂層；以及

b)使所述涂層固化來形成基于厚度為1.0μm的所述光屏蔽膜，光密度(OD)為0.7至1.0的光屏蔽膜，其中，所述光屏蔽膜的厚度為2μm至10μm。

11.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，所述可固化的油墨組合物包含著色劑、環氧化合物、氧雜環丁烷化合物、光聚合引發劑和沸點為190℃至280℃的溶劑。

12.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，步驟a)中的在所述平面波導的所述邊緣側的所述切割面上形成所述光屏蔽膜的所述涂層通過使用噴墨印刷或分配工藝進行。

13.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，步驟b)中的所述固化是UV固化。

14.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，所述光屏蔽膜的厚度為3μm至7μm。

15.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，基于厚度為1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度為2μm至5μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)為0.8至1.0。

16.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，基于厚度為1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度為5μm至10μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)為0.7至0.9。

17.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，所述波導的所述光屏蔽膜的粘合力為4B至5B。

18.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，上面形成有所述光屏蔽膜的所述波導的所述切割面被加工成平坦表面、彎曲表面或傾斜表面。

19.根據權利要求10所述的波導的制造方法，其中，所述光屏蔽膜在所述波導的所述切割面的側面和側棱上形成。

20.一種波導模塊，該波導模塊包括根據權利要求1所述的波導。