[發明專利]在其上形成有光屏蔽膜的波導及其制造方法

在審

• 申請號: 201780060170.0
• 申請日: 2017-11-23
• 公開（公告）號: CN109790967A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 金雅琳;俞在賢;樸圣恩;金俊衡
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: F21V8/00
• 分類號: F21V8/00;C09C1/48
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 張云志;陳英俊

本發明涉及一種波導及其制造方法，所述波導具有形成在所述平面波導的邊緣側的切割面上的光屏蔽膜，該光屏蔽膜的厚度為2μm至10μm，并且基于厚度為1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)為0.7至1.0。

技術領域

本申請要求于2016年12月14日提交的韓國專利申請No.10-2016-0170797的優先權的權益，該申請的全部公開內容通過引用并入本說明書中。

本發明涉及一種具有光屏蔽膜的波導，更具體地，涉及一種包括用于抑制漏光和外部光的流入的光屏蔽層的波導。

背景技術

由增強現實(AR)眼鏡為代表的可穿戴增強現實設備需要近眼顯示器(NED)以便將數字圖像傳輸至用戶的眼睛。NED的組件之一是平面波導。進入這種波導的光線在平行于波導平面的方向上傳輸并且反射至光柵或半透明反射鏡以到達用戶的眼睛。此時，一些光線傳播至波導的末端并且發散至波導的邊緣，在NED的操作過程中引起如圖1中所示的漏光現象。

應當改善這種漏光現象，因為當操作產品時它降低了用戶便利性和美觀性。此外，從波導的邊緣進入的外部光會引起非預期的光學干涉，這會導致圖像質量的劣化。

因此，在波導的切割邊緣上的光屏蔽涂層能夠抑制外部光的流入，從而抑制從NED輸出的圖像質量的劣化。在過去，波導用塑料外殼覆蓋，或者在其邊緣粘附有膠帶以屏蔽光。

然而，在上述方法中，光屏蔽層的厚度厚達數十納米至數毫米，并且難以將光屏蔽涂層的寬度控制為薄且精確至數百納米至數微米。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

(專利文獻1)KR 10-2012-0076973 A

發明內容

技術問題

在使用油墨形成光屏蔽膜的情況下，難以通過諸如接觸型印刷，例如，絲網印刷的常規方式涂布波導的窄切割面。此外，當波導的切割面被加工成彎曲表面或傾斜表面時，難以通過常規方法精確地涂布光屏蔽層。然而，作為非接觸型印刷方法的噴墨印刷方法即使在彎曲的或傾斜的表面的窄切割區域中也能夠精確印刷。

因此，本發明的一個目的是提供一種波導，該波導通過用黑色油墨涂布波導的切割面以形成光屏蔽膜，來防止在波導的邊緣處發生的漏光和外部光流入波導中。

技術方案

為了解決上述問題，本發明提供一種在平面波導的邊緣側的切割面上具有光屏蔽膜的波導，所述光屏蔽膜的厚度為2μm至10μm，基于厚度為1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)為0.7至1.0。

另外，本發明提供一種所述波導的制造方法，包括以下步驟：a)使用可固化的油墨組合物在平面波導的邊緣側的切割面上形成厚度為2μm至10μm的光屏蔽膜的涂層；以及b)使所述光屏蔽膜的圖案固化以形成基于厚度為1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)為0.7至1.0的光屏蔽膜。

本發明還提供一種包括所述波導的波導模塊。

有益效果

根據本發明，即使光屏蔽膜以薄的厚度形成，由于光屏蔽膜的優異的光密度和優異的粘合力，也可以防止在波導的邊緣處發生的漏光現象和外部光流入波導中。

附圖說明

圖1是示出波導的用途和漏光現象的示意圖；

圖2是示出沿著本發明的波導的光傳播路徑的示意圖；

圖3是示出形成本發明的波導的光屏蔽膜的過程的示意圖；

圖4A至圖4C是示出根據本發明的波導的切割面的形狀形成波導的方法的示意圖；