[發明專利]用于電外科工具的受控光學性能釉瓷組合物

在審

• 申請號: 201780056742.8
• 申請日: 2017-11-14
• 公開（公告）號: CN109715571A
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 程曉明;W·X·小賽歐佩斯
• 申請（專利權）人: 美敦力先進能量有限公司
• 主分類號: C03C3/064
• 分類號: C03C3/064;A61B18/14;C03C3/066;C03C3/091;C03C3/093;C03C8/02;C03C8/04;C03C8/14;C03C8/16;C03C10/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 楊昀

1.一種制品，其包括：

(a)包含金屬電極的電外科切削刀片，和

(b)在所述金屬電極至少一部分上的可見釉瓷涂層，

其中，打到所述釉瓷涂層的入射光被漫反射或吸收，且根據ASTM D523-14鏡面光澤度標準測試方法測定，所述釉瓷涂層的60°光澤度小于100光澤單位。

2.一種由玻璃料形成的漫反射性或吸收性可見釉瓷涂層，其中，所述涂層位于用于電外科切削刀片的金屬電極上，且根據ASTM D523-14鏡面光澤度標準測試方法測定，所述涂層的60°光澤度小于100光澤單位。

3.一種方法，其包括：提供釉瓷前體，將所述釉瓷前體施加于適于用作電外科切削刀片的金屬電極的至少一部分上，并燒制所示釉瓷前體以形成漫反射性或吸收性可見釉瓷涂層，根據ASTM D523-14鏡面光澤度標準測試方法測定，所述涂層的60°光澤度小于100光澤單位。

4.一種方法，其包括：對電外科切削刀片間歇性施加射頻能以形成等離子體介導放電，所述刀片具有漫反射性或吸收性可見釉瓷涂層，根據ASTM D523-14鏡面光澤度標準測試方法測定，所述涂層的60°光澤度小于100光澤單位。

5.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的60°光澤度小于80光澤單位。

6.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的60°光澤度小于40光澤單位。

7.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的60°光澤度小于20光澤單位。

8.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的漫反射性或吸收性足以使得下方的金屬電極在常規室內照明下透過該涂層不可見。

9.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的漫反射性或吸收性足以使得下方的金屬電極在等離子體操作期間透過該涂層不可見。

10.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層漫反射或吸收目標可見光波段中的光。

11.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層漫反射或吸收目標紅外光波段中的光。

12.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層的可見外表面被蝕刻或以其他方式粗糙化從而使其不會鏡面反射入射光。

13.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層包含足以使得該涂層吸收或散射入射光的折射性無機顏料。

14.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷涂層包含非紅外吸收性無機顏料。

15.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷是無定形玻璃組合物。

16.如權利要求1所述的制品、如權利要求2所述的涂層或者如權利要求3或4所述的方法，其中，所述釉瓷是具有結晶相的玻璃-陶瓷組合物。