[發明專利]磁性體復合顆粒及其制造方法、以及免疫測定用顆粒在審
| 申請號： | 201780053795.4 | 申請日： | 2017-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN109661579A | 公開（公告）日： | 2019-04-19 |
| 發明（設計）人： | 長尾大輔;今野幹男;石井治之;林久美子;小濱奈月;吉田貴行;上山俊彥 | 申請（專利權）人： | 國立大學法人東北大學;同和電子科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N33/543 | 分類號： | G01N33/543;C01G49/08;G01N33/553 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 復合顆粒 磁性體 體積平均粒徑 樣品液體 透射電子顯微鏡測定 動態光散射法測定 磁性納米顆粒 分散穩定性 無機氧化物 硅化合物 免疫測定 聚合物 核顆粒 粒徑 制造 | ||
1.一種磁性體復合顆粒，其在包含無機氧化物或聚合物的核顆粒的表面上形成有外殼，其中，
所述外殼中含有磁性納米顆粒和硅化合物，
通過透射電子顯微鏡測定的所述磁性體復合顆粒的體積平均粒徑(dTEM)的值為30nm以上且210nm以下，
通過動態光散射法測定的所述顆粒的粒徑(dDLS)的值與所述體積平均粒徑(dTEM)的值之比即(dDLS)/(dTEM)的值為2.0以下。
2.根據權利要求1所述的磁性體復合顆粒，其中，所述外殼中還含有硅烷偶聯劑。
3.根據權利要求1或2所述的磁性體復合顆粒，其中，所述外殼中含有的磁性納米顆粒為磁鐵礦或γ氧化鐵。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的磁性體復合顆粒，其具有球形或大致球形的形狀。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的磁性體復合顆粒，其中，飽和磁化強度的值為30Am2/kg以上且200Am2/kg以下。
6.一種磁性體復合顆粒，其在包含無機氧化物或聚合物的核顆粒的表面上形成有外殼，其中，
所述外殼中含有磁性納米顆粒和硅化合物，
通過透射電子顯微鏡測定的所述磁性體復合顆粒的體積平均粒徑(dTEM)的值為30nm以上且210nm以下，
通過施加/解除磁場能夠將所述磁性體復合顆粒可逆地控制成簇狀態和分散狀態。
7.根據權利要求6所述的磁性體復合顆粒，其中，所述磁性體復合顆粒的簇狀態為鏈狀簇狀態。
8.根據權利要求7所述的磁性體復合顆粒，其中，所述鏈狀簇狀態時的長邊側長度為0.5μm以上且5μm以下。
9.根據權利要求7或8所述的磁性體復合顆粒，其中，當施加0.1T以上且0.4T以下的磁場時，所述鏈狀簇狀態的磁性體復合顆粒以3μm/s以上且15μm/s以下的速度泳動。
10.一種免疫測定用顆粒，其中，在權利要求1至9中任一項所述的磁性體復合顆粒的外殼中存在有抗體。
11.一種磁性體復合顆粒的制造方法，其具有：
制備磁性納米顆粒的懸浮液的工序；
制備核顆粒的工序，所述核顆粒包含無機氧化物或聚合物，由透射電子顯微鏡圖像測定的體積平均粒徑的值為20nm以上且200nm以下；
向所述磁性納米顆粒的懸浮液添加所述核顆粒從而制備雜團聚顆粒的懸浮液的工序；以及，
將硅化合物的水溶液添加到所述雜團聚顆粒的懸浮液中，在所述雜團聚顆粒的表面上設置硅化合物的層，制備磁性體復合顆粒的懸浮液的工序，所述磁性體復合顆粒的由透射電子顯微鏡圖像測定的體積平均粒徑(dTEM)的值為30nm以上且210nm以下。
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