[發明專利]用于真空腔室的門密封件

有效

• 申請號: 201780051762.6
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN109643629B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 約翰·M·懷特
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種真空腔室，包括：

腔室主體，所述腔室主體具有頂部、底部和側壁，所述側壁具有至少形成在其中的第一狹縫閥開口；

第一可充氣密封件，所述第一可充氣密封件密封地耦接至所述側壁并包圍所述第一狹縫閥開口；和

第一狹縫閥門，所述第一狹縫閥門可在接觸所述第一可充氣密封件以在所述第一狹縫閥門與所述腔室主體之間提供真空密封的關閉狀態與使所述第一狹縫閥門脫離所述第一狹縫閥開口的打開狀態之間移動，所述第一可充氣密封件具有耦接至所述側壁的基部和在所述第一狹縫閥門處于所述關閉狀態時可相對于所述基部側向地移動的中空管狀部分。

2.如權利要求1所述的真空腔室，進一步包括：

密封夾，所述密封夾將所述第一可充氣密封件的所述基部密封地夾持到所述腔室主體。

3.如權利要求2所述的真空腔室，其中所述腔室主體的所述側壁進一步包括：

凹槽，所述凹槽接收所述密封夾。

4.如權利要求2所述的真空腔室，其中所述密封夾包括：

凹陷部分，所述凹陷部分具有孔隙，所述第一可充氣密封件的頸部延伸穿過所述孔隙，所述頸部將所述基部耦接至所述中空管狀部分。

5.如權利要求1所述的真空腔室，其中所述中空管狀部分被配置為在所述第一可充氣密封件處于充氣狀態時相對于所述基部側向地滾動通過所述中空管狀部分的直徑的至少1.4％的距離。

6.如權利要求5所述的真空腔室，其中所述距離為至少1mm。

7.如權利要求4所述的真空腔室，其中所述第一可充氣密封件包括：

導管，所述導管用于使所述第一可充氣密封件充氣，所述導管從所述基部延伸穿過形成在所述側壁中的所述凹陷部分。

8.如權利要求1所述的真空腔室，進一步包括：

第二狹縫閥開口，所述第二狹縫閥開口穿過所述側壁形成；

第二狹縫閥門，所述第二狹縫閥門可在關閉位置與打開位置之間移動，當處于所述打開位置時，所述第二狹縫閥門脫離所述第二狹縫閥開口；和

第二可充氣密封件，所述第二可充氣密封件經定位以在所述第二狹縫閥門處于所述關閉位置時密封所述第二狹縫閥開口。

9.如權利要求8所述的真空腔室，進一步包括：

壓力控制系統，所述壓力控制系統耦接至所述腔室主體，所述壓力控制系統適于將所述腔室主體泵吸到真空狀況和使所述腔室主體通風到大氣狀況。

10.如權利要求8所述的真空腔室，其中所述第一可充氣密封件背對所述腔室主體的內部，并且所述第二可充氣密封件面向所述腔室主體的所述內部。

11.如權利要求1所述的真空腔室，其中所述第一可充氣密封件的所述中空管狀部分具有小于約90肖氏A的硬度。