[發(fā)明專利]用于抓取和運輸基底的裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780047504.0 | 申請日: | 2017-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN109690754A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 弗洛里安·瓦姆斯勒;阿希姆·阿諾德;克勞斯·奧佩爾特 | 申請(專利權(quán))人: | 亞席斯自動化系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/677;B65G21/20;B65G17/32;B65H5/22;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京市磐華律師事務所 11336 | 代理人: | 董巍;時永紅 |
| 地址: | 德國多爾*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抓取頭 基底 抓取 滑動面 運輸帶 支承面 電路板 太陽能電池 抽吸裝置 晶片 吸附 運輸 | ||
1.一種用于抓取和運輸基底,尤其晶片、太陽能電池、電路板等的裝置(1),所述裝置具有抓取頭(2),所述抓取頭具有形成用于放置到基底上的支承面(29)的至少一個運輸帶(16),其中,所述運輸帶(16)在所述抓取頭(2)的下側(cè)上沿著滑動面(15)被引導,以及其中,所述抓取頭(2)具有用于將所述基底吸附到所述支承面(29)上的抽吸裝置,其特征在于,所述滑動面(15)構(gòu)造成向下彎曲的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述彎曲在整個滑動面(15)上延伸。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,如此構(gòu)造所述彎曲,所述彎曲使所述運輸帶(16)在所述滑動面(15)的整個長度上相對于所述滑動面(15)預緊。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述滑動面(15)在所述抓取頭(2)的支承結(jié)構(gòu)(3)的整個下側(cè)上延伸。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述運輸帶(16)在至少兩個轉(zhuǎn)向滾輪(18、19)上被引導,所述至少兩個轉(zhuǎn)向滾輪分別對應所述滑動面(15)的一個端部。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,為所述轉(zhuǎn)向滾輪(18、19)中的至少一個配備驅(qū)動機構(gòu)(20)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述支承結(jié)構(gòu)(3)具有至少一個真空腔(10、11、12),所述真空腔在流動技術上在一端與所述抽吸裝置的至少一個文丘里噴嘴(6)的抽吸接頭連接并且在另一端與為所述運輸帶(16)配備的多個抽吸口(22)連接。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述抽吸口(22)構(gòu)造在所述運輸帶(16)上,其中,所述支承結(jié)構(gòu)(3)具有通道開口(14),所述通道開口從所述滑動面(15)引至所述真空腔(10、11、12)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述通道開口(14)通入所述滑動面(15)中的縱向槽(21)中,所述縱向槽位于所述運輸帶(16)之下,其中,所述抽吸口(22)構(gòu)造在所述運輸帶(16)中在縱向槽(21)的區(qū)域中。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述運輸裝置(16)具有至少兩個、尤其是剛好兩個運輸帶(16),所述運輸帶彼此平行且彼此間隔開地布置在所述抓取頭(2)上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





