[發(fā)明專(zhuān)利]基板清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780047281.8
• 申請(qǐng)日: 2017-06-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109564886B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐順龍;謝忠偉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市柔宇科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

提供了一種基板清洗裝置(10)，包括光清洗室(11)、循環(huán)水清洗裝置(17)及載水容器(15)；光清洗室(11)用于對(duì)基板(100)進(jìn)行光清洗，并容納在光清洗的過(guò)程中生成的臭氧，光清洗室(11)與載水容器(15)連通，使得臭氧能夠?qū)胼d水容器(15)，以對(duì)載水容器(15)內(nèi)的水進(jìn)行殺菌消毒；載水容器(15)內(nèi)的水能夠流入循環(huán)水清洗裝置(17)，以供循環(huán)水清洗裝置(17)對(duì)基板(100)進(jìn)行水清洗。通過(guò)將光清洗室內(nèi)生成的多余臭氧導(dǎo)入載水容器，對(duì)載水容器進(jìn)行殺菌消毒，保證了循環(huán)水清洗裝置所用的水干凈清潔，從而能夠確保基板的潔凈無(wú)菌；并且，也對(duì)多余的臭氧進(jìn)行了有效利用，避免了多余臭氧直接排出造成的污染。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板清洗裝置。

背景技術(shù)

在面板的制造過(guò)程中，使用光刻技術(shù)在基板上光刻圖案時(shí)，需要先對(duì)基板進(jìn)行清洗，才能保證成膜質(zhì)量。清洗工藝包括水清洗環(huán)節(jié)，此環(huán)節(jié)中的水為循環(huán)使用。由于容器中的水容易滋生細(xì)菌，在循環(huán)流動(dòng)的過(guò)程中，細(xì)菌將被帶到基板，造成基板污染。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N基板清洗裝置。

一種基板清洗裝置，包括光清洗室、循環(huán)水清洗裝置及載水容器；所述光清洗室用于對(duì)基板進(jìn)行光清洗，并容納在所述光清洗的過(guò)程中生成的臭氧，所述光清洗室與所述載水容器連通，使得所述臭氧能夠?qū)胨鲚d水容器，以對(duì)所述載水容器內(nèi)的水進(jìn)行殺菌消毒；所述載水容器內(nèi)的水能夠流入所述循環(huán)水清洗裝置，以供所述循環(huán)水清洗裝置對(duì)所述基板進(jìn)行水清洗。

本申請(qǐng)的方案，通過(guò)將光清洗室內(nèi)生成的多余臭氧導(dǎo)入載水容器，對(duì)載水容器進(jìn)行殺菌消毒，保證了循環(huán)水清洗裝置所用的水干凈清潔，從而能夠確保基板的潔凈無(wú)菌；并且，也對(duì)多余的臭氧進(jìn)行了有效利用，避免了多余臭氧直接排出造成的污染。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本申請(qǐng)實(shí)施例的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本申請(qǐng)實(shí)施例的臭氧濃度檢測(cè)裝置的安裝結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本申請(qǐng)的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例。基于本申請(qǐng)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種基板清洗裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行清洗。所述清洗可以包括光清洗和水清洗。所述光清洗指使用光線照射基板100，使黏附在基板上的有機(jī)污染物發(fā)生氧化而與基板分離的過(guò)程。所述水清洗指使用水來(lái)沖洗基板，以帶走污染物的過(guò)程。

如圖1所示，本第一實(shí)施例的基板清洗裝置10包括光清洗室11、循環(huán)水清洗裝置17及載水容器15。光清洗室11用于對(duì)基板100進(jìn)行光清洗，并容納在光清洗的過(guò)程中生成的臭氧。光清洗室11與載水容器15連通，使得臭氧能夠?qū)胼d水容器15，以對(duì)載水容器15內(nèi)的水進(jìn)行殺菌消毒。載水容器15內(nèi)的水能夠流入循環(huán)水清洗裝置17，以供循環(huán)水清洗裝置17對(duì)基板100進(jìn)行水清洗。

具體的，光清洗室11是對(duì)基板100進(jìn)行光清洗的場(chǎng)所。光清洗室11內(nèi)可設(shè)置承載臺(tái)，承載臺(tái)上安裝有滾輪113，滾輪113承載并傳送基板100，以進(jìn)行光清洗。也可以通過(guò)其他傳送機(jī)構(gòu)來(lái)傳送基板100，例如通過(guò)可平移的承載臺(tái)傳送基板100，基板100相對(duì)承載臺(tái)靜止。