[發(fā)明專利]用于風(fēng)力設(shè)備的方位角驅(qū)動器的制動盤環(huán)的盤式制動器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780046196.X | 申請日: | 2017-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN109790820B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | D·施皮納克;O·米科拉杰克;F·福斯特;P·伯默 | 申請(專利權(quán))人: | 施特羅瑪格有限公司 |
| 主分類號: | F03D7/02 | 分類號: | F03D7/02;F16D65/00;F03D80/55 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 張立國 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 風(fēng)力 設(shè)備 方位角 驅(qū)動器 制動 制動器 | ||
1.一種盤式制動器,所述盤式制動器用于風(fēng)力設(shè)備的方位角驅(qū)動器的制動盤環(huán)(4),該盤式制動器帶有制動器殼體,所述制動器殼體具有兩個殼體半部(6、7),這兩個殼體半部在相對置的各側(cè)上置于用于所述制動盤環(huán)(4)的容納開口(8)的兩側(cè),在每個殼體半部(6、7)中支承有至少兩個制動活塞,所述至少兩個制動活塞液壓地加載配設(shè)給所述容納開口(8)的摩擦襯片載體(9),其中,至少一個殼體半部(7)具有清潔通道(10),所述清潔通道從殼體背側(cè)延伸到殼體前部區(qū)域,在所述殼體前部區(qū)域中設(shè)有所述容納開口(8)和所述摩擦襯片載體(9),其特征在于,所述清潔通道(10)設(shè)置成與在相應(yīng)兩個相鄰的摩擦襯片載體(9)之間的至少一個中間條(12)對準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤式制動器,其特征在于,所述清潔通道(10)在所述容納開口(8)的區(qū)域中延續(xù)到清潔凹槽(11)中,所述清潔凹槽朝向殼體前側(cè)是敞開的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤式制動器,其特征在于,所述清潔凹槽(11)在朝向所述殼體前側(cè)的方向上具有相對于水平平面的傾斜部,所述摩擦襯片載體(9)布置在所述水平平面中,所述清潔凹槽(11)的底部朝向所述殼體前側(cè)與所述水平平面隔開距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的盤式制動器,其特征在于,所述清潔凹槽(11)的橫截面朝向所述殼體前側(cè)連續(xù)擴大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤式制動器,其特征在于,兩個殼體半部(6、7)共同形成所述清潔通道(10)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的盤式制動器,其特征在于,兩個殼體半部(6、7)共同形成所述清潔通道(10),并且在所述容納開口(8)的區(qū)域中在兩個殼體半部(6、7)中分別設(shè)置有一個清潔凹槽(11)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤式制動器,其特征在于,兩個清潔凹槽(11)設(shè)計成關(guān)于所述殼體半部(6、7)的水平的分隔平面鏡像對稱且分別設(shè)有傾斜部。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤式制動器,其特征在于,兩個殼體半部(6、7)共同形成所述清潔通道(10),并且在所述容納開口(8)的區(qū)域中在兩個殼體半部(6、7)中分別設(shè)置有一個清潔凹槽(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的盤式制動器,其特征在于,兩個清潔凹槽(11)設(shè)計成關(guān)于所述殼體半部(6、7)的水平的分隔平面鏡像對稱且分別設(shè)有傾斜部。
10.一種盤式制動器,所述盤式制動器用于風(fēng)力設(shè)備的方位角驅(qū)動器的制動盤環(huán)(4),該盤式制動器帶有制動器殼體,所述制動器殼體具有兩個殼體半部(6、7),這兩個殼體半部在相對置的各側(cè)上置于用于所述制動盤環(huán)(4)的容納開口(8)的兩側(cè),在每個殼體半部(6、7)中支承有至少兩個制動活塞,所述至少兩個制動活塞液壓地加載配設(shè)給所述容納開口(8)的摩擦襯片載體(9),其中,至少一個殼體半部(7)具有清潔通道(10),所述清潔通道從殼體背側(cè)延伸到殼體前部區(qū)域,在所述殼體前部區(qū)域中設(shè)有所述容納開口(8)和所述摩擦襯片載體(9),其中,所述清潔通道(10)在所述容納開口(8)的區(qū)域中延續(xù)到清潔凹槽(11)中,所述清潔凹槽朝向殼體前側(cè)是敞開的,其特征在于,所述清潔凹槽(11)在朝向所述殼體前側(cè)的方向上具有相對于水平平面的傾斜部,所述摩擦襯片載體(9)布置在所述水平平面中,所述清潔凹槽(11)的底部朝向所述殼體前側(cè)與所述水平平面隔開距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的盤式制動器,其特征在于,所述清潔凹槽(11)的橫截面朝向所述殼體前側(cè)連續(xù)擴大。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的盤式制動器,其特征在于,兩個殼體半部(6、7)共同形成所述清潔通道(10),并且在所述容納開口(8)的區(qū)域中在兩個殼體半部(6、7)中分別設(shè)置有一個清潔凹槽(11)。
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