[發明專利]用于掩蔽基板的掩模布置、用于處理基板的設備及其方法

有效

• 申請號: 201780041675.2
• 申請日: 2017-09-27
• 公開（公告）號: CN109844164B
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 馬蒂亞斯·赫曼尼斯;托馬索·維爾切斯
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于在處理腔室中進行沉積期間掩蔽基板的掩模布置(100)，所述掩模布置包括：

-掩模框架(110)，用于保持掩模(115)，和

-掩模載體(120)，用于保持所述掩模框架(110)，

其中所述掩模框架(110)由順應性支撐件(130)連接到所述掩模載體(120)，所述順應性支撐件(130)包括在所述掩模框架(110)的第一側(110A)處的第一順應性支撐件(131)和在所述掩模框架(110)的與所述掩模框架(110)的所述第一側(110A)相對的第二側(110B)處的第二順應性支撐件(132)，

其中所述第一順應性支撐件(131)被配置為用于在第一方向(101)和第二方向(102)上支撐所述掩模框架(110)，并且其中所述第二順應性支撐件(132)被配置為用于在所述第二方向上支撐所述掩模框架(110)并在所述第一方向(101)上提供自由度，其中所述第二方向(102)垂直于所述第一方向(101)。

2.根據權利要求1所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件被配置為使得所述掩模框架與所述掩模載體機械地分離。

3.根據權利要求2所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件被配置為使得掩模載體變形與所述掩模框架分離。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)被配置為在第三方向(103)上提供順應性支撐。

5.根據權利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件包括在所述第三方向上提供彈性的彈性基礎。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的掩模布置(100)，其中所述掩模載體(120)至少部分地布置在所述掩模框架(110)周圍。

7.根據權利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述掩模載體(120)至少部分地布置在所述掩模框架(110)周圍。

8.根據權利要求1至3中任一項所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模載體(120)中，或其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

9.根據權利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模載體(120)中，或其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

10.根據權利要求6所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模載體(120)中，或其中所述順應性支撐件(130)整合到所述掩模框架(110)中。

11.根據權利要求1至3中任一項所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)由通過放電加工制造的機械結構提供。

12.根據權利要求4所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)由通過放電加工制造的機械結構提供。

13.根據權利要求6所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)由通過放電加工制造的機械結構提供。

14.根據權利要求7所述的掩模布置(100)，其中所述順應性支撐件(130)由通過放電加工制造的機械結構提供。