[發(fā)明專利]用于使掩蔽裝置非接觸地懸浮的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780039914.0
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號(hào): CN109844163A
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蒂莫·艾德勒
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;H01L21/677;C23C16/04;C23C14/56;C23C16/44;H01L21/68;B65G49/07
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種方法，包括：

使掩模組件(200)非接觸地懸浮，所述掩模組件(200)包括載體(210)和由所述載體支持的掩蔽裝置(20)；和

在所述掩模組件非接觸地懸浮時(shí)控制所述載體的形狀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述掩模組件通過多個(gè)磁懸浮力(620、920)非接觸地懸浮，通過控制所述多個(gè)磁懸浮力來控制所述載體的所述形狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述多個(gè)磁懸浮力中的至少兩個(gè)磁懸浮力具有不同的量值。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中控制所述載體的所述形狀包括提供所述載體的變形。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中控制所述載體的所述形狀以使所述掩蔽裝置對準(zhǔn)。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述掩模組件進(jìn)一步包括掩模支撐件(310、510)，所述掩蔽裝置連接到所述掩模支撐件，所述掩模支撐件連接到所述載體，特別地其中所述掩模支撐件是掩模框架(510)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中控制所述載體的所述形狀以補(bǔ)償所述掩模支撐件的變形。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述掩模支撐件是掩模框架(510)，所述掩模框架包括第一框架元件(522)，其中控制所述載體的所述形狀以使所述第一框架元件與基本上水平的方向(692)對準(zhǔn)。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述載體的所述形狀僅由非接觸力控制。

10.一種方法，包括：

用第一多個(gè)磁懸浮力(910)使第一掩模組件(200)非接觸地懸浮，所述第一掩模組件包括第一載體(210)和由所述第一載體支持的第一掩模裝置(20)；

在由所述第一多個(gè)磁懸浮力使所述第一掩模組件非接觸地懸浮時(shí)測量所述第一掩蔽裝置的對準(zhǔn)；

計(jì)算第二多個(gè)磁懸浮力(920)；和

通過所述第二多個(gè)磁懸浮力使掩模組件非接觸地懸浮，所述掩模組件包括載體和由所述載體支持的掩蔽裝置，其中所述掩模組件是所述第一掩模組件或第二掩模組件，

其中所述第二多個(gè)磁懸浮力提供所述載體的變形。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述第二多個(gè)磁懸浮力中的至少兩個(gè)磁懸浮力具有不同的量值。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括：

根據(jù)至少所測量的所述第一掩蔽裝置的對準(zhǔn)來確定所述第一掩蔽裝置的所述形狀與目標(biāo)形狀的偏差。

13.一種設(shè)備(1000)，包括：

磁懸浮系統(tǒng)，所述磁懸浮系統(tǒng)包括多個(gè)磁性單元(610)；

掩模組件(200)，所述掩模組件包括載體(210)和由所述載體支持的掩蔽裝置(20)；和

控制單元(1010)，所述控制單元連接到所述多個(gè)磁性單元，

所述設(shè)備被配置用于在使所述掩模組件非接觸地懸浮時(shí)控制所述載體的所述形狀。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中所述控制單元被配置用于在所述掩模組件非接觸地懸浮時(shí)控制所述多個(gè)磁性單元以控制所述載體的所述形狀。

15.根據(jù)權(quán)利要求13或14中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)測量裝置(912、914)，所述測量裝置被配置用于測量所述掩蔽裝置的對準(zhǔn)。