[發(fā)明專利]減少外來物質(zhì)進入的光學子組件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780039152.4 | 申請日: | 2017-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN109791260A | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何宜龍;廖浩翔;李賈斯汀 | 申請(專利權(quán))人: | 祥茂光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/42 | 分類號: | G02B6/42 |
| 代理公司: | 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33228 | 代理人: | 李迎春 |
| 地址: | 美國德克薩斯州舒*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學子組件 殼體 光學部件 壓配合 施加 密封劑材料層 密封劑材料 壓配合部件 光學組件 外來物質(zhì) 密封劑 子組件 填充 密封 污染物 開口 屏障 引入 制造 | ||
1.一種光學子組件,包括:
殼體,具有多個側(cè)壁,所述多個側(cè)壁之間提供一空腔;
開口,由從該殼體的外表面延伸到該空腔的所述多個側(cè)壁的至少一個表面限定;
光學部件組件,至少部分地設(shè)置在該開口內(nèi),該光學部件組件至少部分地基于在該光學部件組件和限定該開口的所述多個側(cè)壁的該至少一個表面之間形成的過盈配合保持在該開口中;以及
密封劑層,沿著在該光學部件組件的表面和限定該開口的該至少一個表面之間形成的界面設(shè)置,以減少污染物進入該空腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該密封劑層由環(huán)氧樹脂形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學子組件,其中該環(huán)氧樹脂是導熱環(huán)氧樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中限定該開口的該至少一個表面包括第一表面和第二表面,該第二表面大致上垂直于該第一表面延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學子組件,其中該第一表面和該第二表面的至少一部分包括設(shè)置在其上的該密封劑層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該密封劑層沿著在該光學部件組件的表面與該至少一個表面之間形成的該界面以非連續(xù)的方式設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該密封劑層以連續(xù)方式設(shè)置,使得該密封劑層圍繞該光學部件組件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該空腔提供從該殼體的第一端縱向延伸到第二端的光路。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學子組件,其中該光學部件組件包括一濾光器裝置,并且其中該濾光器裝置的濾光器元件響應(yīng)于該光學部件組件設(shè)置在該開口內(nèi)而與該光路光耦合。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學子組件,其中該密封劑層不與該濾光器元件接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該密封劑層是復合層。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該密封劑層提供結(jié)構(gòu)支撐并提供至少一些摩擦力以通過該過盈配合將該光學部件組件保持在該開口中。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,還包括一密封劑材料外部層,該密封劑材料外部層設(shè)置在所述多個側(cè)壁的一側(cè)壁的外表面與該光學部件組件的外表面之間的界面上。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學子組件,其中該光學子組件包括光發(fā)射次模塊或光接收次模塊。
15.一種光收發(fā)器,包括:
收發(fā)器外殼;以及
第一光學子組件,包括光接收次模塊或光發(fā)射次模塊,該第一光學子組件包括:
殼體,具有多個側(cè)壁,所述多個側(cè)壁之間提供一空腔;
開口,由從該殼體的外表面延伸到該空腔的所述多個側(cè)壁的至少一個表面限定;
光學部件組件,至少部分地設(shè)置在該開口內(nèi),該光學部件組件至少部分地基于在該光學部件組件和限定該開口的所述多個側(cè)壁的該至少一個表面之間形成的過盈配合保持在該開口中;以及
第一密封劑層,沿著在該光學部件組件的表面和限定該開口的該至少一個表面之間形成的界面設(shè)置,以減少污染物進入該空腔;
第二光學子組件,包括該光接收次模塊或該光發(fā)射次模塊中的另一個。
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