[發(fā)明專利]基板處理裝置、液體原料補(bǔ)充系統(tǒng)、半導(dǎo)體裝置的制造方法、存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780036974.7
• 申請(qǐng)日: 2017-09-21
• 公開（公告）號(hào): CN109314057B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 磯邊紀(jì)之;壽崎健一;葛西健;河原喜隆;島田真一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社國際電氣
• 主分類號(hào): H01L21/31
• 分類號(hào): H01L21/31;C23C16/448;C23C16/52;H01L21/316
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強(qiáng);李平

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

處理部，其在內(nèi)部形成有容納基板的處理室；

儲(chǔ)存罐，其形成為包含具有凹狀的凹部的底部和從上述底部的周緣立起的壁部，且儲(chǔ)存液體原料；

氣化部，其將儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料氣化而生成原料氣體；

供給部，其向上述處理室供給由上述氣化部生成的原料氣體；

傳感器，其探測(cè)儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料的液面水平，并且具有配置于上述凹部的傳感器元件；

補(bǔ)充部，其向上述儲(chǔ)存罐補(bǔ)充液體原料；以及

控制部，其控制上述供給部，向上述處理室供給原料氣體，從而進(jìn)行處理上述基板的基板處理，并且每次進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的上述基板處理時(shí)，基于上述傳感器探測(cè)到的液體原料的液面水平來控制上述補(bǔ)充部，以儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料的液面水平成為預(yù)先決定的水平的方式向上述儲(chǔ)存罐補(bǔ)充液體原料，其中該預(yù)先決定的水平是在上述儲(chǔ)存罐儲(chǔ)存有為了上述傳感器探測(cè)上述液面水平所需的最小的上述液體原料的量和為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的上述基板處理所需的上述液體原料的量的總量時(shí)的液面水平。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述傳感器是超聲波傳感器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

為了上述傳感器探測(cè)上述液面水平所需的最小的液體原料的量是上述液面水平為上述儲(chǔ)存罐的下限值的量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的上述基板處理所需的液體原料的量是為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的循環(huán)而在上述基板形成預(yù)定的膜所需的液體原料的量，上述循環(huán)依次進(jìn)行向上述處理室內(nèi)供給上述原料氣體的工序、去除上述處理室內(nèi)的上述原料氣體的工序、向上述處理室內(nèi)供給反應(yīng)氣體的工序、以及去除上述處理室內(nèi)的上述反應(yīng)氣體的工序。

5.一種液體原料補(bǔ)充系統(tǒng)，其特征在于，具備：

儲(chǔ)存罐，其形成為包含具有凹狀的凹部的底部和從上述底部的周緣立起的壁部，且儲(chǔ)存液體原料；

氣化部，其將儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料氣化而生成原料氣體；

供給部，其向處理室供給由上述氣化部生成的原料氣體；

傳感器，其探測(cè)儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料的液面水平，并且具有配置于上述凹部的傳感器元件；

補(bǔ)充部，其向上述儲(chǔ)存罐補(bǔ)充液體原料；以及

控制部，其控制上述供給部，向上述處理室供給原料氣體，并且每次對(duì)上述處理室供給預(yù)先決定的次數(shù)的原料氣體時(shí)，基于上述傳感器探測(cè)到的液體原料的液面水平來控制上述補(bǔ)充部，以儲(chǔ)存于上述儲(chǔ)存罐的液體原料的液面水平成為預(yù)先決定的水平的方式向上述儲(chǔ)存罐補(bǔ)充液體原料，其中該預(yù)先決定的水平是在上述儲(chǔ)存罐儲(chǔ)存有為了上述傳感器探測(cè)上述液面水平所需的最小的上述液體原料的量和為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的基板處理所需的上述液體原料的量的總量時(shí)的液面水平。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體原料補(bǔ)充系統(tǒng)，其特征在于，

上述傳感器是超聲波傳感器。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體原料補(bǔ)充系統(tǒng)，其特征在于，

為了上述傳感器探測(cè)上述液面水平所需的最小的液體原料的量是上述液面水平為上述儲(chǔ)存罐的下限值的量。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體原料補(bǔ)充系統(tǒng)，其特征在于，

為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的上述基板處理所需的液體原料的量是為了進(jìn)行預(yù)先決定的次數(shù)的循環(huán)而在上述基板形成預(yù)定的膜所需的上述液體原料的量，上述循環(huán)依次進(jìn)行向上述處理室內(nèi)供給上述原料氣體的工序、去除上述處理室內(nèi)的上述原料氣體的工序、向上述處理室內(nèi)供給反應(yīng)氣體的工序、以及去除上述處理室內(nèi)的上述反應(yīng)氣體的工序。