[發明專利]一種搬運裝置的回旋流形成體和吸引裝置

有效

• 申請號: 201780034683.4
• 申請日: 2017-05-18
• 公開（公告）號: CN109311173B
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 巖坂齊;河西裕二;德永英幸;輿石克洋;田中秀光;箕村勝利
• 申請（專利權）人: 哈莫技術股份有限公司
• 主分類號: B25J15/06
• 分類號: B25J15/06;B65G49/07;H01L21/677
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 鄧毅;黃綸偉

回旋流形成體(3)具備：主體(31)；第1端面(33)，其形成于主體(31)，且與被吸引物對置；孔(32)，其在第1端面(33)開口；噴出口(35)，其形成于主體(31)的面對孔(32)的內周面(311)上；以及流體通路(37)，其使流體從噴出口(35)噴出到孔(32)內而形成回旋流，由此產生負壓來吸引被吸引物，內周面(311)形成為將從噴出口(35)噴出的流體向遠離被吸引物的方向引導而使該流體從孔(32)排出。

技術領域

本發明涉及通過形成回旋流而產生負壓來吸引部件的回旋流形成體。

背景技術

近年，用于非接觸地搬送半導體晶片或玻璃基板等板狀部件的裝置被利用。例如，在專利文獻1中，記載了利用伯努利效應來非接觸地搬送板狀部件的裝置。關于該裝置，使在裝置下表面開口的圓筒室內產生回旋流而利用回旋流中心部的負壓吸引板狀部件，另一方面，借助從該圓筒室流出的流體在該裝置與板狀部件之間保持一定的距離，由此能夠非接觸地搬送板狀部件。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2005-51260號公報

發明內容

發明所要解決的課題

本發明的目的在于提供一種回旋流形成體，其使流體從噴出口噴射到孔內而形成回旋流，由此產生負壓來吸引被吸引物，其中，與將從噴出口噴出的流體向被吸引物的方向引導的情況相比，能夠更加穩定地吸引被吸引物。

用于解決課題的手段

為了解決上述課題，本發明提供回旋流形成體，其特征在于，所述回旋流形成體具備：主體；第1端面，其形成于所述主體，且與被吸引物對置；孔，其在所述第1 端面開口；噴出口，其形成于所述主體的面對所述孔的內周面上；以及第1流體通路，其使流體從所述噴出口噴出到所述孔內而形成回旋流，由此產生負壓來吸引所述被吸引物，所述內周面形成為：將從所述噴出口噴出的流體向遠離所述被吸引物的方向引導而使該流體從所述孔排出。

在優選的方式中，所述內周面的至少一部分形成為：所述孔的截面積隨著遠離所述被吸引物而擴大。

在更加優選的方式中，所述孔是在所述第1端面開口且在與所述第1端面相反側的第2端面也開口的貫通孔，所述內周面形成為：將從所述噴出口噴出的流體引導至所述第2端面的開口。

在更加優選的方式中，所述內周面形成為：從所述第1端面的開口到所述第2 端面的開口，所述孔的截面積隨著遠離所述被吸引物而逐漸擴大。

在更加優選的方式中，所述第2端面的開口的緣部被進行了倒角。

在更加優選的方式中，所述回旋流形成體還具備：板體；和保持部件，其將所述板體保持成與所述第2端面對置，并且在所述第2端面與所述板體之間形成用于供從所述孔流出的流體流動的流路。

在更加優選的方式中，所述保持部件將所述板體保持成能夠在所述貫通孔的貫通方向上擺動。

在另一優選的方式中，所述回旋流形成體還具備：流出口，其形成于所述內周面的比所述噴出口遠離所述被吸引物的位置；排出口，其形成于所述主體的外側面；以及第2流體通路，其將流入所述流出口中的流體從所述排出口排出，所述內周面形成為：將從所述噴出口噴出的流體引導至所述流出口。

在再一個優選的方式中，所述第1流體通路形成為：使從所述噴出口噴出的流體向遠離所述被吸引物的方向流動。