[發(fā)明專利]連續(xù)流內(nèi)窺鏡有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780032337.2 | 申請日： | 2017-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN109152514B | 公開（公告）日： | 2022-09-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | N·D·貝格;D·萊博維茨;M·阿基利安 | 申請（專利權(quán)）人： | 柯惠有限合伙公司 |
| 主分類號： | A61B1/00 | 分類號： | A61B1/00 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 李東暉 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 連續(xù)流 內(nèi)窺鏡 | ||
本發(fā)明提供了連續(xù)流內(nèi)窺鏡裝置，所述連續(xù)流內(nèi)窺鏡裝置包括：細長管狀構(gòu)件，所述細長管狀構(gòu)件限定內(nèi)部；第一通道，所述第一通道設(shè)置在所述細長管狀構(gòu)件的所述內(nèi)部內(nèi)；第二通道，所述第二通道設(shè)置在所述細長管狀構(gòu)件的所述內(nèi)部內(nèi)；以及光學器件裝置，所述光學器件裝置設(shè)置在所述細長管狀構(gòu)件的所述內(nèi)部的自由空間中。所述第二通道被構(gòu)造成在操作的第一部分期間在其中接納器械。穿過所述第二通道限定的內(nèi)腔與穿過所述第一通道限定的內(nèi)腔流體隔離。所述細長管狀構(gòu)件的所述內(nèi)部的所述自由空間是在所述細長管狀構(gòu)件的所述內(nèi)部內(nèi)未被所述第一通道或所述第二通道占據(jù)的空間。
背景技術(shù)
各種類型的內(nèi)窺鏡可以用于外科手術(shù)和探查手術(shù)，其中一些可能涉及流體入流、出流或這兩者，這取決于正在進行的操作。根據(jù)操作，可能存在在手術(shù)期間和手術(shù)之后進入、接取或移除的挑戰(zhàn)或其他挑戰(zhàn)，并且所采用的內(nèi)窺鏡可能需要通過被構(gòu)造用于微創(chuàng)手術(shù)或響應(yīng)于這些挑戰(zhàn)而開發(fā)的其他手術(shù)來適應(yīng)這些挑戰(zhàn)。
發(fā)明內(nèi)容
如本文所用，術(shù)語“遠側(cè)”是指所描述的離使用者較遠的部分，而術(shù)語“近側(cè)”是指所描述的離使用者較近的部分。此外，在一致的程度上，本文所述的任何方面可與本文所述的其它方面的任一方面或全部結(jié)合使用。
根據(jù)本公開的各個方面提供的是連續(xù)流內(nèi)窺鏡裝置，該連續(xù)流內(nèi)窺鏡裝置包括細長管狀構(gòu)件、第一通道、第二通道和光學器件裝置。細長管狀構(gòu)件限定內(nèi)部。第一通道設(shè)置在細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)。第二通道設(shè)置在細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)，并且被構(gòu)造成在操作的第一部分期間在其中接納器械。穿過第二通道限定的內(nèi)腔與穿過第一通道限定的內(nèi)腔流體隔離。光學器件裝置設(shè)置在細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部的自由空間中。自由空間是在細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)未被第一通道或第二通道占據(jù)的空間。
在本公開的一個方面，第一通道專用于流體入流，并且第二通道專用于流體出流。另選地，第一通道可以專用于流體出流，并且第二通道專用于流體入流。
在本公開的另一個方面，第一通道限定月亮形剖面構(gòu)型。另外地或另選地，第二通道限定橢圓形的剖面構(gòu)型。
在本公開的又一個方面，光學器件裝置設(shè)置在設(shè)置于細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)的眼形區(qū)域內(nèi)。
在本公開的再一個方面，第二通道被構(gòu)造成在操作的第二部分期間在其中沒有器械的情況下操作。另外，第一通道和第二通道可以被構(gòu)造成在操作的第一部分和第二部分兩者期間保持連續(xù)流體流。
在本公開的又再一個方面，第二通道設(shè)置在第一通道內(nèi)。
在本公開的一個方面，第二通道能夠從細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部移除。
根據(jù)本公開的各個方面提供的另一種連續(xù)流內(nèi)窺鏡裝置包括：第一細長管狀構(gòu)件，該第一細長管狀構(gòu)件限定內(nèi)部；第一通道，該第一通道設(shè)置在細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)；第二細長管狀構(gòu)件，該第二細長管狀構(gòu)件在其中限定第二通道；以及光學器件裝置。第二細長管狀構(gòu)件可移除地設(shè)置在第一細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)。第二通道被構(gòu)造成在操作的第一部分期間在其中接納器械。穿過第二通道限定的內(nèi)腔與穿過第一通道限定的內(nèi)腔流體隔離。光學器件裝置設(shè)置在第一細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部的自由空間中。自由空間是在第一細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)未被第一通道或第二細長管狀構(gòu)件占據(jù)的空間。
在本公開的一個方面，第一通道專用于流體入流，并且第二通道專用于流體出流。另選地，第一通道可以專用于流體出流，并且第二通道可以專用于流體入流。
在本公開的另一個方面，第一通道限定月亮形剖面構(gòu)型。另外地或另選地，第二通道限定橢圓形的剖面構(gòu)型。
在本公開的又一個方面，光學器件裝置設(shè)置在設(shè)置于細長管狀構(gòu)件的內(nèi)部內(nèi)的眼形區(qū)域內(nèi)。
在本公開的再一個方面，第二通道被構(gòu)造成在操作的第二部分期間在其中沒有器械的情況下操作。另外，第一通道和第二通道可以被構(gòu)造成在操作的第一部分和第二部分兩者期間保持連續(xù)流體流。
在本公開的又再一個方面，第二通道設(shè)置在第一通道內(nèi)。
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