[發明專利]連續流內窺鏡

有效

• 申請號: 201780032337.2
• 申請日: 2017-05-24
• 公開（公告）號: CN109152514B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: N·D·貝格;D·萊博維茨;M·阿基利安
• 申請（專利權）人: 柯惠有限合伙公司
• 主分類號: A61B1/00
• 分類號: A61B1/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 李東暉

1.一種連續流內窺鏡裝置，所述連續流內窺鏡裝置包括：

細長管狀構件，所述細長管狀構件限定內部和縱向軸線；

第一通道，所述第一通道設置在所述細長管狀構件的所述內部內并且限定內部空間，所述第一通道的所述內部空間限定大致垂直于所述縱向軸線的第一剖面面積；

第二通道，所述第二通道設置在所述細長管狀構件的所述內部內并且與所述第一通道的所述內部空間間隔開，所述第二通道被構造成在操作的第一部分期間在其中接納器械，穿過所述第二通道限定的內腔與穿過所述第一通道限定的內腔流體隔離，穿過所述第二通道限定的所述內腔限定大致垂直于所述縱向軸線的第二剖面面積，其中所述第二通道的所述內腔的所述第二剖面面積不同于所述第一通道的所述內部空間的所述第一剖面面積，以使得無論所述器械是否通過所述第二通道插入，通過所述第二通道的流體阻力都不會降低到顯著低于通過所述第一通道的流體阻力的水平；以及

光學器件裝置，所述光學器件裝置設置在所述細長管狀構件的所述內部內的自由空間中，所述自由空間是在所述細長管狀構件的所述內部內未被所述第一通道或所述第二通道占據的空間，

其中所述第一通道布置成沿第一方向輸送流體，并且所述第二通道布置成沿不同于所述第一方向的第二方向輸送流體，所述第一通道和第二通道布置成將流體與所述細長管狀構件的所述自由空間隔離。

2.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第一通道專用于流體入流，并且所述第二通道專用于流體出流。

3.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第一通道專用于流體出流，并且所述第二通道專用于流體入流。

4.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第一通道限定月亮形剖面構型。

5.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第二通道限定橢圓形的剖面構型。

6.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中第二通道被構造成在所述操作的第二部分期間在其中沒有器械的情況下操作。

7.根據權利要求6所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第一通道和第二通道被構造成在所述操作的所述第一部分和第二部分這兩者期間保持連續流體流。

8.根據權利要求1所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第二通道能夠從所述細長管狀構件的所述內部移除。

9.一種連續流內窺鏡裝置，所述連續流內窺鏡裝置包括：

第一細長管狀構件，所述第一細長管狀構件限定內部和縱向軸線；

第一通道，所述第一通道設置在所述第一細長管狀構件的所述內部內并且限定內部空間，所述第一通道的所述內部空間限定大致垂直于所述縱向軸線的第一剖面面積；

第二細長管狀構件，所述第二細長管狀構件在其中限定第二通道，所述第二細長管狀構件可移除地設置在所述第一細長管狀構件的所述內部內并且與所述第一通道的所述內部空間間隔開，所述第二通道被構造成在操作的第一部分期間在其中接納器械，穿過所述第二通道限定的內腔與穿過所述第一通道限定的內腔流體隔離，穿過所述第二通道限定的所述內腔限定大致垂直于所述縱向軸線的第二剖面面積，其中所述第二通道的所述內腔的所述第二剖面面積不同于所述第一通道的所述內部空間的所述第一剖面面積，以使得無論所述器械是否通過所述第二通道插入，通過所述第二通道的流體阻力都不會降低到顯著低于通過所述第一通道的流體阻力的水平；以及

光學器件裝置，所述光學器件裝置設置在所述第一細長管狀構件的所述內部內的自由空間中，所述自由空間是在所述第一細長管狀構件的所述內部內未被所述第一通道或所述第二細長管狀構件占據的空間，

其中所述第一通道布置成沿第一方向輸送流體，所述第二通道布置成沿不同于所述第一方向的第二方向輸送流體，所述第一通道和第二通道布置成將流體與所述第一細長管狀構件的所述自由空間隔離。

10.根據權利要求9所述的連續流內窺鏡裝置，其中所述第一通道專用于流體入流，并且所述第二通道專用于流體出流。