[發(fā)明專利]坩堝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780031329.6 | 申請日: | 2017-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN109312490A | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 木崎隆康 | 申請(專利權)人: | 京瓷株式會社 |
| 主分類號: | C30B15/10 | 分類號: | C30B15/10;B23K9/00;C30B29/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張毅群 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 筒狀部 坩堝 焊接部 厚壁部 | ||
提供一種坩堝(10),其特征在于,以銥或鉑為主成分,具有底部(1)和筒狀部(2),該筒狀部(2)包含多個部位,各部位彼此相鄰的位置具備第1厚壁部(3a)。同時提供一種坩堝(15),其特征在于,以銥或鉑為主成分,具有底部(1)和筒狀部(2),該筒狀部(2)包含多個部位,各部位彼此相鄰的位置具備環(huán)狀的第1焊接部(30)。
技術領域
本申請涉及單晶培育裝置所使用的坩堝。
背景技術
作為基于垂直布里奇曼(VB)法、開羅多孔(KY)法、CZ(佐克拉斯基)法等的單晶培育裝置用的坩堝,使用金屬制的坩堝。特別是在藍寶石(單晶氧化鋁)等高熔點材料的單晶培育中,已知由銥、鉬、鎢和以它們?yōu)橹鞒煞值暮辖鹦纬傻嫩釄?例如,參照日本特開2010-52993號公報)。
作為坩堝的制造方法,日本特開平5-148074號公報和日本特開2006-205200號公報中公開了將成為側部的矩形板設為圓筒形狀,并通過焊接接合于成為底部的圓形板的方法。
單晶培育用的坩堝因熔液凝固時的體積變化、坩堝與固化物的熱膨脹率的差等而導致坩堝易于變形。若坩堝發(fā)生變形,則成為坩堝均熱化的妨礙,或干擾周圍的構件,最壞的情況是坩堝發(fā)生破損。
需要說明的是,坩堝被熔液氧化(變質)易于導致固化時的破損。因此,從氧化的觀點出發(fā),相比于鉬、鎢等,銥、鉑為佳。然而,所述銥、鉑為昂貴的材料,因此為了應對購入成本,必須是能夠耐受重復使用的材料。另外,為了應對目前的為了提高量產性而進行的培育單晶的大型化,坩堝也不斷大型化,但由于大型化的坩堝的局部熱分布差、應力分布差變大,進而需要其難以變形。另外,銥、鉑為主成分的大型化的坩堝更加昂貴,因此必須能耐受多次使用。
發(fā)明內容
本申請的坩堝以銥或鉑為主成分,具有底部和筒狀部。該筒狀部包含多個部位,各部位彼此相鄰的位置具備環(huán)狀的厚壁部。
另外,另一方案的坩堝以銥或鉑為主成分,具有底部和筒狀部。該筒狀部包含多個部位,各部位彼此相鄰的位置具備環(huán)狀的第1焊接部。
附圖說明
圖1是示出本申請的坩堝的一個實施方式的截面圖。
圖2是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖3是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖4是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖5是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖6是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖7是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
圖8是示出本申請的坩堝的另一實施方式的截面圖。
具體實施方式
對于本實施方式的坩堝10,一邊參照附圖一邊進行說明。圖1~4是示出本實施方式的多個例子的截面圖。
坩堝10包含銥或鉑而成,具有底部1和筒狀部2。筒狀部2包含多個部位,各部位彼此相鄰的位置具備環(huán)狀的厚壁部3。單晶培育所使用的坩堝10為底部1的直徑(Φ)和高度為約100mm以上的較大型的坩堝。筒狀部2具備第1部位2a和第2部位2b而構成。圖1所示的坩堝10具有:底部1、與底部1連接的第1部位2a、與第1部位2a連接的第2部位2b、和在第1部位2a與第2部位2b彼此相鄰的位置的環(huán)狀的第1厚壁部3a。第1厚壁部3a的壁厚較大,起到所謂的加強環(huán)的作用。具有第1厚壁部3a的坩堝10難以變形。
本實施方式的第1厚壁部3a和后述的各厚壁部通過將構成坩堝10的多個部位進行焊接而形成。各圖中,對于通過焊接而形成的部分,用與筒狀部2不同粗細的(粗)斜線陰影線表示。
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