[發(fā)明專利]復(fù)制原盤的制造方法和被形成體的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780028736.1
• 申請日: 2017-04-27
• 公開（公告）號: CN109070441B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柴田章広;梶谷俊一;林部和彌;菊池正尚
• 申請（專利權(quán)）人: 迪睿合電子材料有限公司
• 主分類號: B29C59/02
• 分類號: B29C59/02;B29C33/38
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 周爽;金玉蘭

本發(fā)明的復(fù)制原盤(10)具備基材層(11)和形成在基材層(11)上且具有微細(xì)凹凸圖案的表面形狀體(12)，表面形狀體(12)的軟化溫度比基材層(11)的軟化溫度高。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請主張2016年5月9日在日本提出的特愿2016-094103和2016年8月23日在日本提出的特愿2016-162922的優(yōu)先權(quán)，在此為了參照而援引在先申請的所有公開。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及復(fù)制原盤的制造方法和被形成體的制造方法。

背景技術(shù)

作為微細(xì)加工技術(shù)之一，有通過準(zhǔn)備在表面形成了微細(xì)的凹凸圖案(微細(xì)凹凸圖案)的原盤，將原盤的微細(xì)凹凸圖案壓抵到樹脂片等，從而向樹脂片轉(zhuǎn)印原盤的微細(xì)凹凸圖案的壓印技術(shù)。壓印技術(shù)例如在向智能手機(jī)、平板終端等顯示器面板上形成用于防止反射的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)等時(shí)使用。

以往，通過壓印形成微細(xì)結(jié)構(gòu)體的被形成體是大致平面的顯示器面板等。然而，近年來，要求向具有立體形狀的顯示面板、照相機(jī)等的透鏡面、汽車的各種計(jì)量儀表的面板表面這樣的立體的被形成體形成微細(xì)結(jié)構(gòu)體。

在壓印中，通常準(zhǔn)備與形成于被形成體的微細(xì)結(jié)構(gòu)體對應(yīng)的具有微細(xì)凹凸圖案的原盤(主模)。然后，制作轉(zhuǎn)印了主模的微細(xì)凹凸圖案的原盤(復(fù)制原盤)，使用該復(fù)制原盤進(jìn)行微細(xì)凹凸圖案向被形成體的轉(zhuǎn)印。

在專利文獻(xiàn)1中公開了如下技術(shù)：通過向環(huán)烯烴共聚物(COC)等柔性聚合物箔(膜)轉(zhuǎn)印主模的微細(xì)凹凸圖案，從而制作聚合物印模(復(fù)制原盤)，使用聚合物印模，將微細(xì)凹凸圖案轉(zhuǎn)印于被形成體。由于聚合物印模由柔性聚合物箔形成而具有柔性，所以通過利用加熱使膜軟化，將液體壓力施加于聚合物印模，從而能夠使聚合物印模隨著立體的被形成體的形狀而變形。通過使隨著被形成體的形狀而變形的聚合物印模與涂布在被形成體上的光固化性樹脂密合，向光固化性樹脂照射光而使其固化，從而能夠在被形成體上形成微細(xì)結(jié)構(gòu)體。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利第5276436號

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

在專利文獻(xiàn)1中，通過向柔性聚合物箔轉(zhuǎn)印主模的微細(xì)凹凸圖案來制作聚合物印模。即，專利文獻(xiàn)1中公開的聚合物印模(復(fù)制原盤)是由COC等柔性聚合物構(gòu)成的單層的膜。因此，在為了使聚合物印模隨著被形成體的形狀變形而將聚合物印模加熱時(shí)，聚合物印模的凹凸部分也軟化，有時(shí)導(dǎo)致微細(xì)凹凸圖案的形狀潰散。如果發(fā)生這樣的復(fù)制原盤的微細(xì)凹凸圖案的形狀的潰散，則難以轉(zhuǎn)印與主模的微細(xì)凹凸圖案對應(yīng)的精度高的微細(xì)凹凸圖案。

鑒于如上所述的問題點(diǎn)而做出的本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠防止復(fù)制原盤中的微細(xì)凹凸圖案的潰散，并且能夠抑制轉(zhuǎn)印的精度劣化的復(fù)制原盤、復(fù)制原盤的制造方法、物品和被形成體的制造方法。

技術(shù)方案

為了解決上述課題，本發(fā)明的復(fù)制原盤具備基材層和形成在上述基材層上且具有微細(xì)凹凸圖案的表面形狀體，上述表面形狀體的軟化溫度比上述基材層的軟化溫度高。

另外，在本發(fā)明的復(fù)制原盤中，優(yōu)選上述基材層具有撓性。

另外，在本發(fā)明的復(fù)制原盤中，優(yōu)選上述基材層和上述表面形狀體通過由1層以上的層構(gòu)成的中間層而被固定。

另外，在本發(fā)明的復(fù)制原盤中，優(yōu)選在上述表面形狀體的微細(xì)凹凸圖案的表面形成有脫模層。

另外，在本發(fā)明的復(fù)制原盤中，優(yōu)選上述表面形狀體由無機(jī)化合物構(gòu)成。

另外，在本發(fā)明的復(fù)制原盤中，優(yōu)選上述基材層的伸長率為10％以上。