[發明專利]包含特定交聯劑的保護膜形成用組合物及使用了該組合物的圖案形成方法

有效

• 申請號: 201780026762.0
• 申請日: 2017-04-21
• 公開（公告）號: CN109073978B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 大橋智也;緒方裕斗;橋本雄人;臼井友輝;境田康志;岸岡高廣
• 申請（專利權）人: 日產化學株式會社
• 主分類號: G03F7/11
• 分類號: G03F7/11;G03F7/26;H01L21/306
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;孫麗梅

本發明的課題是提供對堿性過氧化氫水溶液的保護膜形成用組合物。作為解決手段是一種對堿性過氧化氫水溶液的保護膜形成用組合物，其包含：1分子中具有2個以上選自縮水甘油基、末端環氧基、環氧環戊基、環氧環己基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基、異氰酸酯基和封閉異氰酸酯基中的至少1種基團的交聯劑，側鏈或末端具有下述式(1)所示的基團且重均分子量為800以上的化合物，以及有機溶劑。(式中，X¹表示與上述交聯劑反應的取代基，R⁰表示直接結合或碳原子數1或2的亞烷基，X²表示碳原子數1或2的烷基、碳原子數1或2的烷氧基、或氟基，a表示0～2的整數，b表示1～3的整數，c表示0～4的整數，b與c滿足1≤(b+c)≤5的關系式。)。

技術領域

本發明涉及在光刻工藝中，用于形成對堿性過氧化氫水溶液的耐性優異的保護膜的組合物。進一步涉及應用上述保護膜來形成圖案的方法。

背景技術

已知在基板與在其上形成的抗蝕劑膜之間設置抗蝕劑下層膜，形成所希望的形狀的抗蝕劑圖案的光刻工藝。然而，以往的抗蝕劑下層膜，例如專利文獻1所記載的由包含氨基塑料系交聯劑的組合物形成的抗蝕劑下層膜的對堿性過氧化氫水溶液的耐性差。因此，不能將這樣的抗蝕劑下層膜用作使用了堿性過氧化氫水溶液的蝕刻工藝中的掩模。

下述專利文獻2中記載了，包含具有被保護的羧基的化合物、具有能夠與羧基反應的基團的化合物、以及溶劑的光刻用下層膜形成用組合物、或包含具有能夠與羧基反應的基團和被保護的羧基的化合物、以及溶劑的光刻用下層膜形成用組合物，該組合物不含氨基塑料系交聯劑作為必需成分。然而，專利文獻2中，關于由該組合物形成的抗蝕劑下層膜的對堿性過氧化氫水溶液的耐性，沒有任何記載和暗示。

下述專利文獻3中記載了，使用了具有對堿性過氧化氫水溶液的耐性的抗蝕劑下層膜的圖案形成方法。而且，用于形成該抗蝕劑下層膜的組合物包含重均分子量1000～100,000的具有環氧基的聚合物、和溶劑。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第4145972號公報

專利文獻2：國際公開第2005/013601號

專利文獻3：國際公開第2015/030060號

發明內容

發明所要解決的課題

近年來，使對堿性過氧化氫水溶液的耐性比以往進一步提高的保護膜的要求越來越強烈。本發明的目的是提供，用于形成具有對堿性過氧化氫水溶液的耐性的保護膜的新的組合物、和使用了該保護膜的圖案形成方法。

用于解決課題的方法

本發明的發明人發現，除氨基塑料系交聯劑以外的特定交聯劑、與包含與該特定交聯劑反應的取代基的重均分子量為800以上的化合物的組合，能夠解決上述課題。即，本發明的第一方案是一種對堿性過氧化氫水溶液的保護膜形成用組合物，其包含：1分子中具有2個以上選自縮水甘油基、末端環氧基、環氧環戊基、環氧環己基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基、異氰酸酯基和封閉異氰酸酯基中的至少1種基團的交聯劑，側鏈或末端具有下述式(1)所示的基團且重均分子量為800以上的化合物，以及有機溶劑。

(式中，X¹表示與上述交聯劑反應的取代基，R⁰表示直接結合或碳原子數1或2的亞烷基，X²表示碳原子數1或2的烷基、碳原子數1或2的烷氧基、或氟基，a表示0～2的整數，b表示1～3的整數，當b表示2或3時、-R⁰-X¹所示的基團可以彼此不同，c表示0～4的整數，當c表示2、3或4時、X²所示的基團可以彼此不同，b與c滿足1≤(b+c)≤5的關系式。)