[發(fā)明專利]圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)以及熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780019458.3
• 申請日: 2017-02-16
• 公開（公告）號: CN108885406B
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: H·E·塞克利;G·納基伯格魯;F·J·J·范博克斯特爾;J-P·X·范達(dá)梅;R·J·F·范哈倫
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 王茂華;張昊

一種圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)(30)，用于熱調(diào)節(jié)光刻裝置的圖案化設(shè)備(MA)，其中圖案化設(shè)備在使用時被曝光輻射照射，其中圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)包括：熱調(diào)節(jié)器(20)，被配置為熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備；以及控制器(500)，被配置為控制熱調(diào)節(jié)器，以根據(jù)被圖案化設(shè)備吸收的曝光輻射的量來熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備。

相關(guān)申請的交叉參考

本申請要求2016年3月24日提交的EP 16162204.8號的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引證引入本文。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)以及熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備的方法。

背景技術(shù)

光刻裝置是在襯底上(通常在襯底的目標(biāo)部分上)施加期望圖案的機(jī)器。例如，光刻裝置可用于制造集成電路(IC)。在這種情況下，圖案化設(shè)備(例如，掩模或中間掩模)可生成將要形成在曝光襯底的各個層上的電路圖案。該圖案可以被轉(zhuǎn)印到襯底(例如，硅晶圓)上的目標(biāo)部分(例如，包括一個或多個裸片的一部分)。圖案的轉(zhuǎn)印通常經(jīng)由設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(光刻膠)的層上的成像。通常，單個襯底將包含被相繼圖案化的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。傳統(tǒng)的光刻裝置包括所謂的步進(jìn)機(jī)(其中通過立即曝光目標(biāo)部分上的整個圖案來照射每個目標(biāo)部分)以及所謂的掃描機(jī)(其中通過在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案來照射每個目標(biāo)部分，同時與該方向平行或反平行地掃描襯底)。

發(fā)明內(nèi)容

在光刻裝置的使用期間，輻射束入射到圖案化設(shè)備上。來自輻射束的一些能量被圖案化設(shè)備吸收，使得圖案化設(shè)備升溫。例如，圖案化設(shè)備的加熱會引起覆蓋的增加。這是因為圖案化設(shè)備的加熱會使得圖案化設(shè)備擴(kuò)展以及機(jī)械變形。如果圖案化設(shè)備擴(kuò)展和/或機(jī)械變形，則形成在曝光襯底的各個層上的電路圖案會受到不利的影響。

例如，期望降低圖案化設(shè)備的加熱在曝光襯底的層之間具有覆蓋的效果。

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)，用于熱調(diào)節(jié)光刻裝置的圖案化設(shè)備，其中圖案化設(shè)備在使用中被曝光輻射照射，其中圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)包括：熱調(diào)節(jié)器，被配置為熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備；以及控制器，被配置為根據(jù)被圖案化設(shè)備吸收的曝光輻射的量來控制熱調(diào)節(jié)器。

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種熱調(diào)節(jié)光刻裝置的圖案化設(shè)備的方法，圖案化設(shè)備在使用中被曝光輻射所照射，該方法包括：根據(jù)被圖案化設(shè)備吸收的曝光輻射的量來熱調(diào)節(jié)圖案化設(shè)備。

附圖說明

現(xiàn)在將參照附圖僅通過示例描述本發(fā)明的實施例，其中，對應(yīng)的參考符號表示對應(yīng)的部分，其中：

圖1是根據(jù)一個實施例的反射光刻裝置的示意圖；

圖2是根據(jù)一個實施例的透射光刻裝置的示意圖；

圖3以截面示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的圖案化設(shè)備冷卻系統(tǒng)；

圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的襯底批次內(nèi)的襯底的數(shù)量與圖案化設(shè)備的溫度之間的關(guān)系的曲線圖；

圖5和圖6是示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的襯底批次內(nèi)的襯底的數(shù)量與圖案化設(shè)備的溫度之間的關(guān)系的曲線圖；以及

圖7示意性示出了在襯底曝光期間的圖案化設(shè)備的溫度的變化。

具體實施方式

所公開的實施例僅僅例示了本發(fā)明。本發(fā)明的范圍不限于所公開的實施例。通過所附權(quán)利要求來限定本發(fā)明。