[發明專利]閉合裝置、具有閉合裝置的真空系統和操作閉合裝置的方法

有效

• 申請號: 201780015220.3
• 申請日: 2017-06-08
• 公開（公告）號: CN109392303B
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: U·奧爾登多夫;C·克萊森
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: F16K37/00
• 分類號: F16K37/00;F16K51/02;F16K3/18;F16K3/316
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

提供一種閉合裝置(100,200)，特別是用于閉合真空腔室的開口。閉合裝置包括：凸緣(110)，設于真空腔室并包括開口(112)；阻擋裝置(120,220)，經構造以閉合開口(112)；第一磁性裝置(130)，經構造以在凸緣(110)與阻擋裝置(120)之間產生磁性閉合力，用于將阻擋裝置的至少一部分從打開位置(I)傳送至閉合位置(II)；和磁懸浮系統(150)，經構造以在平行于凸緣(110)的第一方向(T)中沿著引導結構非接觸地傳送阻擋裝置(120)，其中磁懸浮系統包括第二磁性裝置(160)，經構造以在第二方向(X)中穩定阻擋裝置(120)，第二方向(X)橫向于第一方向(T)。

技術領域

本公開內容的實施方式涉及一種閉合裝置，特別涉及一種用于以真空密封方式閉合第一壓力區域和第二壓力區域之間的開口的閉合裝置。更特別是，描述了一種用于閉合真空腔室的開口的閉合裝置。實施方式更有關于一種包括真空腔室和閉合裝置的真空系統，所述閉合裝置用于以真空密封方式閉合真空腔室的開口。實施方式更有關于一種操作閉合裝置的方法，特別涉及一種閉合真空腔室的開口的方法。

背景技術

可使用鎖定閥、閘閥、閘和其它閉合裝置以通過真空密封方式相對于大氣環境閉合真空系統，或分離具有彼此不同的壓力的真空系統的數個區域。舉例來說，閘閥或另一閉合裝置可用作真空腔室的可閉合的門，或用作兩個真空區域之間的可閉合的通道，以便在閉合裝置處于打開位置中時，傳送基板或其它物體進入真空腔室中、將基板或其它物體傳送離開真空腔室、或早真空腔室的兩個真空區域之間傳送基板或其它物體。在閉合裝置的閉合位置中，具有不同壓力的兩個區域通過閉合裝置的阻擋裝置(例如，蓋、槳板(paddle)或閉合板)而被彼此分離。

閉合裝置可包括凸緣，所述凸緣通常為連接至真空腔室的壁的靜止元件或與真空腔室的壁一體形成的靜止元件，其中凸緣設置有開口，所述開口被凸緣壁圍繞開口。閉合裝置可還包括可移動的阻擋裝置(例如，蓋)，經構造以利用真空密封方式閉合凸緣的開口。在蓋的閉合位置中，蓋可停置(sit)于凸緣的密封表面上，所述凸緣的密封表面圍繞開口，使得開口被密封。在蓋的打開位置中，開口可用來傳送例如是基板或掩模的元件通過開口。

基板尺寸，例如，用于光學、電子、或諸如顯示器和/或有機發光二極管(OLED)裝置的光電應用的基板尺寸，持續地增加。因此，提供具有大的開口的閉合裝置會為有利的。所述大的開口經構造以在打開位置中傳送大面積基板通過大的開口。舉例來說，閉合裝置的開口可具有0.5m²或更大的面積。

閉合裝置的相關因素是蓋和凸緣的變形，例如，在蓋在閉合裝置的閉合狀態下被壓向凸緣的密封表面時。變形的結果可能為蓋和凸緣之間的非均勻壓力，特別是在密封元件上的非均勻壓力。因此，可能需要高的閉合力，所述高的閉合力反而可能致使在真空系統中的粒子產生，例如，由于凸緣和蓋之間的摩擦力而導致的粒子產生。粒子產生可能負面地影響真空品質。再者，真空沉積系統中的微小粒子可能負面地影響沉積結果，因為一些粒子可能附接于基板。

類似地，在蓋的閉合運動期間，彈性密封元件和蓋之間的相對運動可能致使粒子產生。

因此，提供用于真空腔室的如下閉合裝置是有利的：所述閉合裝置經構造而也可靠地閉合大的開口，并同時減少真空腔室中因摩擦力而導致的粒子產生。

發明內容

有鑒于上述，提出一種閉合裝置、一種真空系統和一種操作閉合裝置的方法。

根據本公開內容的一方面，提出一種閉合裝置。閉合裝置包括凸緣，設于真空腔室并包括開口；阻擋裝置，經構造以閉合開口；第一磁性裝置，經構造以在凸緣和阻擋裝置之間產生磁性閉合力，用于將阻擋裝置或阻擋裝置的一部分從打開位置傳送至閉合位置；和磁懸浮系統，經構造以在平行于所述凸緣的第一方向中沿著引導結構非接觸地傳送阻擋裝置，其中磁懸浮系統包括第二磁性裝置，經構造以于第二方向中穩定阻擋裝置，第二方向橫向于第一方向。