[發明專利]振動隔離器、光刻設備和器件制造方法

在審

• 申請號: 201780014623.6
• 申請日: 2017-02-03
• 公開（公告）號: CN108713165A
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: H·巴特勒;C·A·L·德胡恩;F·M·雅各布斯;P·卡甘;J·P·斯塔雷維爾德;M·W·J·E·維杰克曼斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F16F15/02;F16F15/023;F16F15/027;F16F9/02
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;崔卿虎

1.一種振動隔離器，包括：

基座；

耦合元件，被耦合到振動敏感物體；

去耦質量；

第一振動隔離器部分，被布置在所述基座與所述去耦質量之間；以及

第二振動隔離器部分，被布置在所述去耦質量與所述耦合元件之間，

并且其中所述第一振動隔離器部分和所述第二振動隔離器部分中的至少一個振動隔離器部分包括氣動隔離器。

2.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述去耦質量僅由所述第一振動隔離器部分和所述第二振動隔離器部分懸置。

3.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述第一振動隔離器部分和所述第二振動隔離器部分兩者包括氣動隔離器。

4.根據權利要求3所述的振動隔離器，其中所述第一振動隔離器部分的氣動隔離器與所述第二振動隔離器部分的氣動隔離器之間的串擾被最小化，優選地被阻止。

5.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述第一振動隔離器部分的靜態剛度基本上等于所述第二振動隔離器部分的靜態剛度。

6.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述氣動隔離器是密封的氣動隔離器。

7.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述基座或所述耦合元件包括腔室，所述去耦質量可移位地布置在所述腔室中。

8.根據權利要求1所述的振動隔離器，其中所述去耦質量是所述氣動隔離器的活塞部分或圓筒部分。

9.一種光刻設備，包括：

振動敏感物體；

振動隔離器，支撐所述振動敏感物體，并且包括：

基座；

耦合元件，被耦合到所述振動敏感物體；

去耦質量；

第一振動隔離器部分，被布置在所述基座與所述去耦質量之間；以及

第二振動隔離器部分，被布置在所述去耦質量與所述耦合元件之間，

并且其中所述第一振動隔離器部分和所述第二振動隔離器部分中的至少一個振動隔離器部分包括氣動隔離器。

10.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述振動敏感物體是以下之一：

照射系統，被配置為調節輻射束；

投影系統，被配置為將圖案化輻射束投射到襯底的目標部分上；

臺組件，包括被構造為保持所述襯底的襯底臺；或者

基礎框架，支撐所述照射系統、所述投影系統和/或所述臺組件。

11.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述第一振動隔離器部分和所述第二振動隔離器部分兩者包括氣動隔離器。

12.根據權利要求11所述的光刻設備，其中所述第一振動隔離器部分的氣動隔離器與所述第二振動隔離器部分的氣動隔離器之間的串擾被最小化，優選地被阻止。

13.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述第一振動隔離器部分的靜態剛度基本上等于所述第二振動隔離器部分的靜態剛度。

14.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述氣動隔離器是密封的氣動隔離器。

15.一種器件制造方法，包括使用根據權利要求9所述的光刻設備來將圖案化輻射束投射到襯底上。