[發(fā)明專利]噴霧器噴嘴、成膜裝置、及成膜方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780014477.7
• 申請日: 2017-03-17
• 公開（公告）號: CN108698059A
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 平野正樹
• 申請（專利權(quán)）人: 拓自達(dá)電線株式會社
• 主分類號: B05B7/16
• 分類號: B05B7/16;C23C4/12;C23C24/04
• 代理公司: 北京邦信陽專利商標(biāo)代理有限公司 11012
• 代理人: 黃澤雄

實現(xiàn)易于在狹小區(qū)域成膜的、噴霧器噴嘴、成膜裝置、及成膜方法。噴霧器噴嘴1具備：載氣的通道沿著該載氣的流向而縮小的氣體入口部(2)、載氣的通道沿著該載氣的流向而擴大的通路擴大部(3)、形成有將所述載氣的通道與外部空間連通的一個或多個開口(4a)的開口形成部(4)、以及、所述載氣的通道沿著該載氣的流向而縮小的氣體出口部(5)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及向基材同時噴射載氣(Carrier Gas)及膜材料從而在該基材上成膜的、噴霧器噴嘴、成膜裝置、及成膜方法。

背景技術(shù)

近年，在電子工學(xué)領(lǐng)域，電子部件及電路的小型化及輕量化不斷發(fā)展。隨之而來的是對于對微小區(qū)域進(jìn)行表面處理(表面改性)以及在微小區(qū)域形成電極等的需求也不斷增加。

為了滿足這樣的需求，近年來利用噴涂法來成膜的方法受到了關(guān)注。例如，作為噴涂法之一，例如有包括以下步驟的的冷噴涂法：(1)使溫度低于膜材料的融點或軟化溫度的載氣高速流動，(2)向該載氣的氣流中投入膜材料來使其加速，(3)使膜材料以固相狀態(tài)高速撞擊基板等從而成膜。

關(guān)于使用冷噴涂法來成膜的技術(shù)，在專利文獻(xiàn)1～3中有所揭載。

(現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn))

(專利文獻(xiàn))

專利文獻(xiàn)1：日本國公開專利公報“特開2011－240314號(2011年12月1日公開)”

專利文獻(xiàn)2：日本國公開專利公報“特開2005－95886號(2005年4月14日公開)”

專利文獻(xiàn)3：日本國公開專利公報“特開2009－120913號(2009年6月4日公開)”

發(fā)明內(nèi)容

(發(fā)明要解決的課題)

專利文獻(xiàn)1～3所揭載的冷噴涂法均使用了載氣通道沿著該載氣的流向而擴大的噴霧器噴嘴。即，專利文獻(xiàn)1～3的噴霧器噴嘴設(shè)計為噴霧器噴嘴的出口徑大于入口徑。其目的是為了使載氣越靠近噴霧器噴嘴出口就越膨脹，從而利用該膨脹了的載氣來使膜材料加速。

由于專利文獻(xiàn)1～3的噴霧器噴嘴中出口徑大于入口徑，因此如果在對比其出口徑小的區(qū)域進(jìn)行表面處理(表面改性)以及在該區(qū)域形成電極，則需要另外設(shè)置掩模。舉例來看，現(xiàn)在噴霧器噴嘴已經(jīng)實現(xiàn)了標(biāo)準(zhǔn)化，該標(biāo)準(zhǔn)化噴霧器噴嘴的入口徑是直徑2mm，出口徑是直徑5mm或6mm，長度是120mm。因此，在對比出口徑(直徑5mm或6mm)狹小的區(qū)域進(jìn)行成膜時，需要花費時間及成本來設(shè)置掩模。

另一方面，也可考慮不改變?nèi)肟趶降拇笮《豢s小出口徑的方案，但是該方案下，噴霧器噴嘴內(nèi)的載氣膨脹受到抑制而不能使膜材料充分加速。因此，即使采用上述方案，成膜效率也低，很難在狹小的區(qū)域成膜。

本發(fā)明是鑒于上述問題而實施的，本發(fā)明的目的在于實現(xiàn)易于在狹小區(qū)域成膜的、噴霧器噴嘴、成膜裝置、及成膜方法。

(解決課題的手段)

為解決上述課題，本發(fā)明的噴霧器噴嘴是用以向基材同時噴射載氣及膜材料從而在該基材上成膜的噴霧器噴嘴，該噴霧器噴嘴具備：氣體入口部，該氣體入口部中，所述載氣的通道沿著該載氣的流向而縮小；與所述氣體入口部相連的通路擴大部，該通路擴大部中，所述載氣的通道沿著該載氣的流向而擴大；與所述通路擴大部相連的開口形成部，該開口形成部上形成有將所述載氣的通道與外部空間連通的一個或多個開口；以及與所述開口形成部相連的氣體出口部，該氣體出口部中，所述載氣的通道沿著該載氣的流向而縮小。

根據(jù)所述方案，所述噴霧器噴嘴的所述氣體入口部中，所述載氣的通道沿著該載氣的流向而縮小。由此，所述載氣的速度在所述氣體入口部得到增加。