[發(fā)明專利]光學薄膜的制造方法以及模具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780014466.9
• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN108780162B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發(fā)明（設計）人: 中松健一郎;新納厚志;林秀和
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G02B1/118
• 分類號: G02B1/118;B29C33/42;B29C59/02;B32B3/30;B32B7/023;B32B38/06;G02B1/14;G02B1/18
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞;習冬梅

本發(fā)明能夠提供防污性以及耐磨性優(yōu)良的光學薄膜的制造方法。本發(fā)明的光學薄膜的制造方法，包括：涂布下層樹脂以及上層樹脂的工序(1)；在已涂布的所述下層樹脂以及所述上層樹脂被層疊的狀態(tài)下，從所述上層樹脂側將模具推壓至所述下層樹脂以及所述上層樹脂，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層的工序(2)；使所述樹脂層硬化的工序(3)，所述上層樹脂包括含氟單體，所述模具的表面涂布有脫模劑，在涂布了所述脫模劑的所述模具的表面通過θ/2法測量的十六烷的接觸角與通過X射線光電子能譜法測量的氟原子數(shù)相對于碳原子數(shù)、鋁原子數(shù)、氧原子數(shù)以及氟原子數(shù)的總數(shù)的比例在規(guī)定范圍內。

技術領域

本發(fā)明涉及光學薄膜的制造方法以及模具。更詳細地，涉及具有納米尺寸的凹凸結構的光學薄膜的制造方法以及適用于上述光學薄膜的制造方法的模具。

背景技術

已知具有納米尺寸的凹凸結構(納米結構)的光學薄膜具有優(yōu)良的抗反射性。根據(jù)這樣的凹凸構造，由于從空氣層到基材薄膜折射率連續(xù)地變化，從而能夠急劇地減少反射光。

現(xiàn)有技術文獻

非專利文獻

[專利文獻1]nanoscience株式會社，“XPS分析的豆知識”、“碳的化學狀態(tài)(C1s的鍵能的遷移(化學遷移))”、“online”、2014年(平成28年2月17日檢索)，網(wǎng)絡(URL:http://www.)nanoscience.co.jp/knowledge/XPS/knowledge02.html)[非專利文獻2]A.M.Ferraria等，“關于直接氟化的HDPE的XPS的研究：問題以及解決方案(XPS studies ofdirectly fluorinated HDPE:problems and solutions)”、Polymer 44、2003、pp.7241-7249[非專利文獻3]Thermo Fisher Scientific株式會社(Thermo Fisher ScientificInc.)、“Oxygen”、“一般的化學狀態(tài)的鍵能(Binding energies of common chemicalstates)”，“online”，2013年，(平成28年2月17日檢索)，網(wǎng)絡(URL:http://xpssimplified.)com/elements/oxygen.php)[非專利文獻4]N.Stobie等，“銀摻雜的全氟聚醚聚氨酯涂布：抗菌性以及表面解析(Silver Doped Perfluoropolyether-UrethaneCoatings:Antibacterial Activity and Surface Analysis)、Colloids and SurfacesB:Biointerfaces、Vol.”72、2009、pp.62-67

發(fā)明內容

發(fā)明要解決的問題

在制造這種光學薄膜之際，通常使用用于形成凹凸結構的模具。并且，為了提高脫模性，會對模具利用脫模劑實施表面處理，即實施脫模處理。但是，本發(fā)明者進行檢討之后發(fā)現(xiàn)，在使用了脫模劑的脫模效果不充分的模具的情況下，獲得的光學薄膜的防水性以及防油性，即，防污性不充分。因此，存在在光學薄膜表面附著的指紋、油等污物容易擴散，進一步，擦去進入凸部之間的污物變得困難的問題。另外，也存在光學薄膜的表面的摩擦阻力變大(光滑性下降)、耐磨性下降的問題。

本發(fā)明鑒于上述現(xiàn)狀而形成，其目的在于提供防污性以及耐磨性優(yōu)良的光學薄膜的制造方法。另外，目的還在于提供制造防污性以及耐磨性優(yōu)良的光學薄膜之時所使用的模具。

解決問題的方法