[發明專利]光學薄膜的制造方法以及模具

有效

• 申請號: 201780014466.9
• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN108780162B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 中松健一郎;新納厚志;林秀和
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G02B1/118
• 分類號: G02B1/118;B29C33/42;B29C59/02;B32B3/30;B32B7/023;B32B38/06;G02B1/14;G02B1/18
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞;習冬梅

1.一種表面具有多個凸部以可見光波長以下的間隔設置的凹凸構造的光學薄膜的制造方法，其特征在于，

包括：在基材薄膜上涂布下層樹脂，在模具上涂布上層樹脂的工序(1)；

從所述上層樹脂側，將涂布有上層樹脂的所述模具推壓至涂布于所述基材薄膜上的所述下層樹脂，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層的工序(2)；

使所述樹脂層硬化的工序(3)；

所述上層樹脂包括含氟單體，

所述模具的表面涂布有脫模劑，

所述脫模劑含有碳原子、氧原子以及氟原子作為構成原子，

所述模具含有鋁原子以及氧原子作為構成原子，

在涂布了所述脫模劑的所述模具的表面滴下十六烷，當將通過θ/2法測量的緊跟著十六烷滴下后的接觸角定義為θ_A(單位：°)，將十六烷滴下四分鐘之后的接觸角定義為θ_B(單位：°)時，θ_A以及θ_B為85°以上，且θ_A與θ_B之差為3.5°以下，

通過X射線光束直徑100μm，分析面積1000μm×500μm，以及光電子的取出角度45°的條件下的X射線光電子能譜法測量的，涂布了所述脫模劑的所述模具表面的氟原子數相對于碳原子數、鋁原子數、氧原子數以及氟原子數的總數的比例在30atm％以上。

2.一種表面具有多個凸部以可見光波長以下的間隔設置的凹凸構造的光學薄膜的制造方法，其特征在于，

包括：在基材薄膜上同時涂布下層樹脂以及上層樹脂的工序(1)；

從所述上層樹脂側將模具推壓至涂布于所述基材薄膜上的所述下層樹脂以及所述上層樹脂，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層的工序(2)；

使所述樹脂層硬化的工序(3)；

所述上層樹脂包括含氟單體，

所述模具的表面涂布有脫模劑，

所述脫模劑含有碳原子、氧原子以及氟原子作為構成原子，

所述模具含有鋁原子以及氧原子作為構成原子，

在涂布了所述脫模劑的所述模具的表面滴下十六烷，當將通過θ/2法測量的緊跟著十六烷滴下后的接觸角定義為θ_A(單位：°)，將十六烷滴下四分鐘之后的接觸角定義為θ_B(單位：°)時，θ_A以及θ_B為85°以上，且θ_A與θ_B之差為3.5°以下，

通過X射線光束直徑100μm，分析面積1000μm×500μm，以及光電子的取出角度45°的條件下的X射線光電子能譜法測量的，涂布了所述脫模劑的所述模具表面的氟原子數相對于碳原子數、鋁原子數、氧原子數以及氟原子數的總數的比例在30atm％以上。

3.一種表面具有多個凸部以可見光波長以下的間隔設置的凹凸構造的光學薄膜的制造方法，其特征在于，

包括：在模具上依次涂布上層樹脂以及下層樹脂的工序(1)；

從所述下層樹脂側將涂布有所述上層樹脂以及所述下層樹脂的所述模具推壓至薄膜基材，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層的工序(2)；

使所述樹脂層硬化的工序(3)；

所述上層樹脂包括含氟單體，

所述模具的表面涂布有脫模劑，

所述脫模劑含有碳原子、氧原子以及氟原子作為構成原子，

所述模具含有鋁原子以及氧原子作為構成原子，

在涂布了所述脫模劑的所述模具的表面滴下十六烷，當將通過θ/2法測量的緊跟著十六烷滴下后的接觸角定義為θ_A(單位：°)，將十六烷滴下四分鐘之后的接觸角定義為θ_B(單位：°)時，θ_A以及θ_B為85°以上，且θ_A與θ_B之差為3.5°以下，

通過X射線光束直徑100μm，分析面積1000μm×500μm，以及光電子的取出角度45°的條件下的X射線光電子能譜法測量的，涂布了所述脫模劑的所述模具表面的氟原子數相對于碳原子數、鋁原子數、氧原子數以及氟原子數的總數的比例在30atm％以上。