[發明專利]可低溫固化的負型感光性組合物

有效

• 申請號: 201780011950.6
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN108700814B
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發明（設計）人: 三角元希;橫山大志;谷口克人;九澤昌祥
• 申請（專利權）人: AZ電子材料(盧森堡)有限公司
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G03F7/027;G03F7/038;G03F7/40
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉卓然

1.一種負型感光性組合物，其包含：

堿可溶性樹脂，所述堿可溶性樹脂是含有包含羧基的聚合單元、包含羥基的聚合單元與包含烷氧基甲硅烷基的聚合單元的聚合物，

具有2個以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物，所述具有2個以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物從由如下構成的群組中選出：三(2-丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚四亞甲基二醇二甲基丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯和1,10-癸二醇二丙烯酸酯，

聚硅氧烷，

聚合引發劑，以及

溶劑，

其中，相對于總計100重量份的所述堿可溶性樹脂以及所述聚硅氧烷，包含3~50重量份的所述具有2個以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物，并且

其中，所述包含烷氧基甲硅烷基的聚合單元衍生自以下的式(I)所示的單體：

X-(CH₂)_a-Si(OR)_b(CH₃)_3-b (I)

式中，

X是乙烯基、苯乙烯基或者(甲基)丙烯酰氧基，

R是甲基或者乙基，

a為0~3的整數，并且

b為1~3的整數。

2.根據權利要求1所述的組合物，其中，所述包含羧基的聚合單元衍生自不飽和羧酸、不飽和羧酸酐或者它們的混合物。

3.根據權利要求1或2所述的組合物，其中，所述堿可溶性樹脂的重均分子量為3,000~50,000。

4.根據權利要求1或2所述的組合物，其中，所述聚硅氧烷的重均分子量為1,200~5,000。

5.根據權利要求1或2所述的組合物，其中，所述聚合引發劑為光自由基產生劑。

6.一種固化膜的制造方法，其包含如下的工序：

將權利要求1~5中任一項所述的組合物涂布于基板而形成涂膜，

將涂膜進行曝光，然后

將已曝光的涂膜顯影。

7.根據權利要求6所述的固化膜的制造方法，其中，在顯影后，還包含以70~360℃的溫度進行加熱的工序以將涂膜進行固化。

8.一種固化膜，其由權利要求1~5中任一項所述的組合物形成。

9.一種元件，其具備權利要求8所述的固化膜。