[發明專利]用于化學拋光的系統、裝置和方法

有效

• 申請號: 201780010487.3
• 申請日: 2017-02-06
• 公開（公告）號: CN108604549B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發明（設計）人: B·C·加嘎納坦;R·巴賈杰
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/321
• 分類號: H01L21/321;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/461
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 金紅蓮;侯穎媖

1.一種流體網絡平板組件，包括：

墊，所述墊具有多個流體開口；

多個流體通道的網絡，每個通道與至少一個流體開口流體地連通；

多個入口，每個入口耦合至不同的流體通道；以及

出口，所述出口耦合至未耦合至入口的所述流體通道中的一個。

2.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，其中，所述多個流體通道的所述網絡由多個平板形成，每個平板具有對齊的通道的陣列。

3.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，其中，以圓形圖案設置所述多個流體開口，所述圓形圖案具有大于待處理的基板的直徑。

4.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，其中，所述多個入口包含用于第一化學通道的第一入口、用于第二化學通道的第二入口、以及用于漂洗通道的第三入口。

5.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，其中，所述出口耦合至流體泵并且可操作以用作排水口。

6.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，進一步包含用于耦合所述流體網絡平板組件至軌道致動器的安裝盤。

7.如權利要求1所述的流體網絡平板組件，其中，所述多個流體通道的至少一些流體通道包含可移除管狀插件。

8.一種用于拋光基板的化學拋光系統，所述系統包括：

拋光頭；

軌道致動器；以及

流體網絡平板組件，所述流體網絡平板組件耦合至所述軌道致動器并且被設置在所述拋光頭下方，其中，所述流體網絡平板組件包含：墊，所述墊具有多個流體開口；多個流體通道的網絡，每個通道與至少一個流體開口流體地連通；多個入口，每個入口耦合至不同的流體通道；以及出口，所述出口耦合至未耦合至入口的所述流體通道中的一個。

9.如權利要求8所述的化學拋光系統，其中，所述多個流體通道的所述網絡由多個平板形成，每個平板具有對齊的通道的陣列。

10.如權利要求8所述的化學拋光系統，其中，以圓形圖案設置所述多個流體開口，所述圓形圖案具有大于待處理的基板的直徑。

11.如權利要求8所述的化學拋光系統，其中，所述多個入口包含用于第一化學通道的第一入口、用于第二化學通道的第二入口、以及用于漂洗通道的第三入口。

12.如權利要求8所述的化學拋光系統，其中，所述出口耦合至流體泵并且可操作以用作排水口。

13.如權利要求8所述的化學拋光系統，進一步包含用于耦合所述流體網絡平板組件至軌道致動器的安裝盤。

14.如權利要求8所述的化學拋光系統，其中，所述多個流體通道的至少一些流體通道包含可移除管狀插件。

15.一種拋光基板的方法，所述方法包括以下步驟：

提供化學拋光系統，包含流體網絡平板組件，所述流體網絡平板組件具有多個流體通道的網絡，每個通道與墊中的至少一個流體開口流體地連通，所述墊耦合至所述流體網絡平板組件；

提供多個入口，每個入口耦合至不同的流體通道；

旋轉基板接近所述流體網絡平板組件；

使所述流體網絡平板組件進行依軌道運轉，其中，所述流體網絡平板組件的中央從所述基板的中央偏離；

經由所述流體網絡平板組件將所述基板暴露至第一化學溶液的薄膜持續預先定義的時間量；

經由所述流體網絡平板組件使用去離子水的第一薄膜漂洗該基板；

經由所述流體網絡平板組件將所述基板暴露至第二化學溶液的薄膜持續預先定義的時間量；

經由所述流體網絡平板組件使用去離子水的第二薄膜漂洗所述基板；以及

重復所述暴露和所述漂洗，直至達到終點。