[發明專利]曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請號: 201780008774.0
• 申請日: 2017-01-13
• 公開（公告）號: CN108885404B
• 公開（公告）日: 2021-04-27
• 發明（設計）人: 五十嵐晃
• 申請（專利權）人: 優志旺電機株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K3/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 樸勇

提供一種曝光技術，該曝光技術即使為了不同的品種而進行不同曝光圖案的曝光的情況下，也不費功夫及成本，適合于多品種少量生產。工件(W)的各對位標記(AM)經透射型的數字光掩模(2)而被各相機(7)拍攝，基于各拍攝數據，控制器(4)上的修正程序修正原始的圖案數據。修正中包含掩模圖案的顯示位置的修正、倍率的修正。來自光源(1)的包含紫外線的光通過所修正的掩模圖案而向工件(W)照射，工件(W)被曝光。

技術領域

本發明涉及一種光刻中的曝光技術。

背景技術

光刻作為在對象物上制作細微形狀的技術而用于各種用途。典型地，為了形成各種電子設備上所搭載的印刷基板的制造中的電路圖案，進行光刻。在光刻中，存在將想要得到的形狀的光照射到對象物的曝光工序，使用曝光裝置。

曝光裝置有投影曝光、接觸曝光、接近式曝光等各種方式。在這些方式中，將來自光源的光經由光掩模照射到對象物(以下，稱為工件)。光掩模在像石英玻璃基板這樣的透明的玻璃基板上，由鉻等遮光性材料形成有圖案，通過該圖案來控制光的透射、遮斷。該圖案是與想要在工件上形成的圖案相同的圖案，該圖案的光被投影或轉印到工件上，從而進行曝光。以下，將照射到工件上的光的圖案稱為曝光圖案，將形成在掩模上的圖案稱為掩模圖案。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平6-232024號公報

專利文獻2：日本特開2004-87771號公報

發明內容

發明要解決的問題

在上述以往的曝光裝置中，在產品的品種不同的情況下，所形成的圖案也不同，因此必須根據各品種來準備并保管各光掩模，除了光掩模本身的成本以外，管理的成本也不能忽視。這一點在多品種少量生產的趨勢越大的生產現場越成為深刻的問題。

本發明是考慮上述問題而做出的，其目的在于提供一種曝光技術，該曝光技術即使為了不同的品種而進行不同曝光圖案的曝光的情況下，也不費功夫及成本，適合于多品種少量生產。

用于解決技術問題的方案

為了解決上述問題，本申請的技術方案1的發明具備：光源，放出包含紫外線的光；透射型的數字光掩模；傳送系統，向通過了數字光掩模的來自光源的光的照射位置傳送工件；相機，拍攝被傳送到光的照射位置的工件的特定部位；以及控制器，數字光掩模具有通過控制器來控制的大量的像素，各像素能夠取透射紫外線的關閉狀態和遮斷紫外線的打開狀態，控制器具備：存儲部，存儲有用于使數字光掩模進行掩模圖案的顯示的數據即圖案數據；和輸出部，對數字光掩模輸出圖案數據來使數字光掩模進行掩模圖案的顯示，并且，在控制器中安裝有修正程序，該修正程序基于相機的拍攝數據來修正圖案數據，并從輸出部輸出所修正的圖案數據，修正程序包含顯示位置修正模塊，該顯示位置修正模塊根據由相機拍攝的工件的特定部位的拍攝數據，修正數字光掩模上的掩模圖案的顯示位置。

此外，為了解決上述問題，技術方案2的發明，在上述技術方案1的結構中，上述工件的特定部位是對位標記。

此外，為了解決上述問題，技術方案3的發明，在上述技術方案2的結構中，上述對位標記被設置有多個，上述相機拍攝各對位標記。

此外，為了解決上述問題，技術方案4的發明，在上述技術方案3的結構中，上述相機分別被設置在能夠拍攝各對位標記的位置。

此外，為了解決上述問題，技術方案5的發明，在上述技術方案3或4的結構中，上述修正程序包含縮放模塊，該縮放模塊根據由上述相機拍攝的上述對位標記的拍攝數據，決定數字光掩模中的掩模圖案的顯示倍率。