[發(fā)明專利]極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780008507.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-01-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108604057B | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安鎮(zhèn)浩;金廷桓;金正植;禹東坤;張鏞鑄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 漢陽大學(xué)校產(chǎn)學(xué)協(xié)力團(tuán) |
| 主分類號(hào): | G03F1/62 | 分類號(hào): | G03F1/62;G03F1/00;G03F1/22;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 呂琳;宋東穎 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紫外線 光罩護(hù) 膜結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,包括:
準(zhǔn)備光罩護(hù)膜薄膜的步驟,上述光罩護(hù)膜薄膜包括由多個(gè)極紫外線透射層及散熱層交替層疊而成的中間膜結(jié)構(gòu)體、配置于上述中間膜結(jié)構(gòu)體的上部面上且露出于外部的第一薄膜以及配置于上述中間膜結(jié)構(gòu)體的下部面且具有低于上述第一薄膜的熱輻射率并露出于外部的第二薄膜;以及
在上述光罩護(hù)膜薄膜的上述散熱層所露出的邊緣側(cè)面上配置從上述光罩護(hù)膜薄膜吸收熱量的冷卻結(jié)構(gòu)體的步驟,
并且,通過熱輻射率相對(duì)低的上述第二薄膜來減少與上述第二薄膜面對(duì)面配置的罩的熱損傷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
上述冷卻結(jié)構(gòu)體包括:
第一部分及第二部分,沿著第一方向以相向的方式延伸;以及
第三部分及第四部分,沿著與上述第一方向交叉的第二方向以相向的方式延伸,
上述第一部分至第四部分以一體化的方式構(gòu)成,
配置上述冷卻結(jié)構(gòu)體的步驟中,向一體化的上述冷卻結(jié)構(gòu)體的內(nèi)側(cè)插入上述光罩護(hù)膜薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
上述冷卻結(jié)構(gòu)體還包括向被上述第一部分至第四部分包圍的內(nèi)部突出的收容部,
在配置上述冷卻結(jié)構(gòu)體的步驟中,為了使上述第二薄膜與上述收容部相鄰,在上述冷卻結(jié)構(gòu)體的上述收容部上配置上述光罩護(hù)膜薄膜,使得向上述冷卻結(jié)構(gòu)體的內(nèi)側(cè)插入上述光罩護(hù)膜薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
上述冷卻結(jié)構(gòu)體包括:
第一片段及第二片段,沿著第一方向以相向的方式延伸;以及
第三片段及第四片段,沿著與上述第一方向交叉的第二方向以相向的方式延伸,
在配置上述冷卻結(jié)構(gòu)體的步驟中,獨(dú)立地將上述第一片段至第四片段附著于上述光罩護(hù)膜薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
上述冷卻結(jié)構(gòu)體還包括向被上述第一片段至第四片段包圍的內(nèi)部突出的收容部,
在配置上述冷卻結(jié)構(gòu)體的步驟中,為了使上述第二薄膜與上述收容部相鄰,在上述冷卻結(jié)構(gòu)體的上述收容部上配置上述光罩護(hù)膜薄膜,使得向上述冷卻結(jié)構(gòu)體的內(nèi)側(cè)插入形成有上述第一薄膜及第二薄膜的上述光罩護(hù)膜薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
上述散熱層將從上述極紫外線透射層吸收的熱量向上述冷卻結(jié)構(gòu)體傳遞,
上述冷卻結(jié)構(gòu)體將從上述極紫外線透射層及上述散熱層吸收的熱量向外部釋放。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,上述第一薄膜還將從上述極紫外線透射層吸收的熱量向外部輻射釋放。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,
在配置上述冷卻結(jié)構(gòu)體之前還包括:
準(zhǔn)備光罩護(hù)膜框架的步驟;以及
將上述光罩護(hù)膜框架附著于上述光罩護(hù)膜薄膜的上述第二薄膜上的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體的制造方法,其特征在于,上述冷卻結(jié)構(gòu)體覆蓋上述第一薄膜、上述第二薄膜及覆蓋上述光罩護(hù)膜框架的外部面。
10.一種極紫外線光罩護(hù)膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,包括:
中間膜結(jié)構(gòu)體,由多個(gè)極紫外線透射層及散熱層交替層疊而成;
第一薄膜,附著于上述中間膜結(jié)構(gòu)體的上部面且露出于外部;
第二薄膜,附著于上述中間膜結(jié)構(gòu)體的下部面并露出于外部,具有低于上述第一薄膜的輻射率;以及
冷卻結(jié)構(gòu)體,通過配置于上述光罩護(hù)膜薄膜的上述散熱層所露出的邊緣側(cè)面來包圍上述光罩護(hù)膜薄膜并從上述光罩護(hù)膜薄膜吸收熱量,
并且,通過熱輻射率相對(duì)低的上述第二薄膜來減少與上述第二薄膜面對(duì)面配置的罩的熱損傷。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





