[實(shí)用新型]CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721928191.3
• 申請(qǐng)日: 2017-12-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN207788605U
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂鴻圖
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山納諾新材料科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B29/02
• 分類(lèi)號(hào): B24B29/02;B24B27/00;C23F3/04
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本實(shí)用新型公開(kāi)了CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備，包括機(jī)械拋光室以及化學(xué)拋光室，機(jī)械拋光室以及化學(xué)拋光室的底部均設(shè)置有傳送皮帶，機(jī)械拋光室以及化學(xué)拋光室之間通過(guò)傳送皮帶傳動(dòng)連接，傳送皮帶的左側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)軸，轉(zhuǎn)動(dòng)軸與傳送皮帶嵌套連接，傳送皮帶的頂部設(shè)置有擋板，擋板與傳送皮帶一體化成型，機(jī)械拋光室的內(nèi)部設(shè)置有拋光頭，拋光頭的底部?jī)蓚?cè)設(shè)置有矩形倒齒，拋光頭的頂部設(shè)置有萬(wàn)向軸，萬(wàn)向軸的中間位置設(shè)置有液壓伸縮桿，液壓伸縮桿的頂部設(shè)置有套桿，套桿的頂端連接到驅(qū)動(dòng)電機(jī)，拋光頭與驅(qū)動(dòng)電機(jī)之間通過(guò)傳動(dòng)桿相連，傳動(dòng)桿貫穿設(shè)置于拋光頭的內(nèi)部，該種CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備，使用較為方便，拋光效果較好，整體效率較高。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及CMP拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體為CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備。

背景技術(shù)

CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化學(xué)機(jī)械拋光。CMP技術(shù)所采用的設(shè)備及消耗品包括：拋光機(jī)、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等。CMP技術(shù)的概念是1965年由Monsanto首次提出。該技術(shù)最初是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如軍用望遠(yuǎn)鏡等。1988年IBM開(kāi)始將CMP技術(shù)運(yùn)用于4MDRAM的制造中，而自從1991年IBM將CMP成功應(yīng)用到64MDRAM的生產(chǎn)中以后，CMP技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來(lái)。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過(guò)化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。不銹鋼是一種常見(jiàn)的材料，在制造過(guò)程中需要對(duì)其表面進(jìn)行拋光處理，現(xiàn)有設(shè)備中拋光效率較低，無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際生產(chǎn)需要。

所以，如何設(shè)計(jì)CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備，成為我們當(dāng)前要解決的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的不銹鋼是一種常見(jiàn)的材料，在制造過(guò)程中需要對(duì)其表面進(jìn)行拋光處理，現(xiàn)有設(shè)備中拋光效率較低，無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際生產(chǎn)需要的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：CMP不銹鋼快速拋光設(shè)備，包括機(jī)械拋光室以及化學(xué)拋光室，所述機(jī)械拋光室以及所述化學(xué)拋光室的底部均設(shè)置有傳送皮帶，所述機(jī)械拋光室以及所述化學(xué)拋光室之間通過(guò)傳送皮帶傳動(dòng)連接，所述傳送皮帶的左側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸與所述傳送皮帶嵌套連接，所述傳送皮帶的頂部設(shè)置有擋板，所述擋板與所述傳送皮帶一體化成型，所述機(jī)械拋光室的內(nèi)部設(shè)置有拋光頭，所述拋光頭采用鎢鋼材料制作而成，所述拋光頭的底部?jī)蓚?cè)設(shè)置有矩形倒齒，所述拋光頭的頂部設(shè)置有萬(wàn)向軸，所述萬(wàn)向軸的中間位置設(shè)置有液壓伸縮桿，所述液壓伸縮桿與所述萬(wàn)向軸之間通過(guò)螺栓固定連接，所述液壓伸縮桿的頂部設(shè)置有套桿，所述套桿的頂端連接到驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述拋光頭與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)之間通過(guò)傳動(dòng)桿相連，所述傳動(dòng)桿貫穿設(shè)置于所述拋光頭的內(nèi)部。

進(jìn)一步的，所述拋光頭的數(shù)量為四個(gè)，所述拋光頭呈兩列水平設(shè)置。

進(jìn)一步的，所述化學(xué)拋光室的內(nèi)部設(shè)置有一對(duì)基座，所述基座的底部設(shè)置有接觸座，所述接觸座以及所述基座的內(nèi)部均設(shè)置有拋光液輸送管，所述拋光液主要成分為高純度硅粉。

進(jìn)一步的，所述化學(xué)拋光室的底部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)座，所述旋轉(zhuǎn)座頂部設(shè)置有若干墊片，所述墊片采用聚四氟乙烯材料制作而成。

進(jìn)一步的，所述旋轉(zhuǎn)座呈螺旋狀，所述旋轉(zhuǎn)座的頂部設(shè)置有進(jìn)料口.

進(jìn)一步的，所述旋轉(zhuǎn)座的右側(cè)設(shè)置有出料口，所述進(jìn)料口以及所述出料口之間的高度差為30cm。